1 当調査分析レポートの紹介
・DUV・EUVフォトレジスト市場の定義
・市場セグメント
タイプ別：13.5nm、193nm、248nm
用途別：半導体リソグラフィー、ウェーハ製造、集積回路基板、その他
・世界のDUV・EUVフォトレジスト市場概観
・本レポートの特徴とメリット
・調査方法と情報源
調査方法
調査プロセス
基準年
レポートの前提条件と注意点
2 DUV・EUVフォトレジストの世界市場規模
・DUV・EUVフォトレジストの世界市場規模：2023年VS2030年
・DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高、展望、予測：2019年～2030年
・DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高：2019年～2030年
3 企業の概況
・グローバル市場におけるDUV・EUVフォトレジスト上位企業
・グローバル市場におけるDUV・EUVフォトレジストの売上高上位企業ランキング
・グローバル市場におけるDUV・EUVフォトレジストの企業別売上高ランキング
・世界の企業別DUV・EUVフォトレジストの売上高
・世界のDUV・EUVフォトレジストのメーカー別価格（2019年～2024年）
・グローバル市場におけるDUV・EUVフォトレジストの売上高上位3社および上位5社、2023年
・グローバル主要メーカーのDUV・EUVフォトレジストの製品タイプ
・グローバル市場におけるDUV・EUVフォトレジストのティア1、ティア2、ティア3メーカー
グローバルDUV・EUVフォトレジストのティア1企業リスト
グローバルDUV・EUVフォトレジストのティア2、ティア3企業リスト
4 製品タイプ別分析
・概要
タイプ別 – DUV・EUVフォトレジストの世界市場規模、2023年・2030年
13.5nm、193nm、248nm
・タイプ別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高と予測
タイプ別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2019年～2024年
タイプ別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2025年～2030年
タイプ別-DUV・EUVフォトレジストの売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別 – DUV・EUVフォトレジストの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
5 用途別分析
・概要
用途別 – DUV・EUVフォトレジストの世界市場規模、2023年・2030年
半導体リソグラフィー、ウェーハ製造、集積回路基板、その他
・用途別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高と予測
用途別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2019年～2024年
用途別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2025年～2030年
用途別 – DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別 – DUV・EUVフォトレジストの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
6 地域別分析
・地域別 – DUV・EUVフォトレジストの市場規模、2023年・2030年
・地域別 – DUV・EUVフォトレジストの売上高と予測
地域別 – DUV・EUVフォトレジストの売上高、2019年～2024年
地域別 – DUV・EUVフォトレジストの売上高、2025年～2030年
地域別 – DUV・EUVフォトレジストの売上高シェア、2019年～2030年
・北米
北米のDUV・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
米国のDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
カナダのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
メキシコのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・ヨーロッパ
ヨーロッパのDUV・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年〜2030年
ドイツのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
フランスのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イギリスのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イタリアのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
ロシアのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・アジア
アジアのDUV・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
中国のDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
日本のDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
韓国のDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
東南アジアのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
インドのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・南米
南米のDUV・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
ブラジルのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
アルゼンチンのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・中東・アフリカ
中東・アフリカのDUV・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
トルコのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イスラエルのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
サウジアラビアのDUV・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
UAEDUV・EUVフォトレジストの市場規模、2019年～2030年
7 主要メーカーのプロフィール
※掲載企業：Tokyo Ohka Kogyo (TOK)、JSR Micro、Fujifilm Holdings Corporation、Shin-Etsu Chemical、DuPont、Dongjin Semichem、Merck KGaA、Hitachi Chemical、Sumitomo Bakelite、LG Chem、Everlight Electronics、Kolon Industries、Dow Chemical Company、HMT (Xiamen) New Material Technology、Jiangsu Nata Opto-electronic Material、Shanghai Sinyang Semiconductor Materials、Crystal Clear Electronic Material、Red Avenue New Materials、Shenzhen RongDa Photosensitive Science & Technology
・Company A
Company Aの会社概要
Company Aの事業概要
Company AのDUV・EUVフォトレジストの主要製品
Company AのDUV・EUVフォトレジストのグローバル販売量・売上
Company Aの主要ニュース＆最新動向
・Company B
Company Bの会社概要
Company Bの事業概要
Company BのDUV・EUVフォトレジストの主要製品
Company BのDUV・EUVフォトレジストのグローバル販売量・売上
Company Bの主要ニュース＆最新動向
…
…
8 世界のDUV・EUVフォトレジスト生産能力分析
・世界のDUV・EUVフォトレジスト生産能力
・グローバルにおける主要メーカーのDUV・EUVフォトレジスト生産能力
・グローバルにおけるDUV・EUVフォトレジストの地域別生産量
9 主な市場動向、機会、促進要因、抑制要因
・市場の機会と動向
・市場の促進要因
・市場の抑制要因
10 DUV・EUVフォトレジストのサプライチェーン分析
・DUV・EUVフォトレジスト産業のバリューチェーン
・DUV・EUVフォトレジストの上流市場
・DUV・EUVフォトレジストの下流市場と顧客リスト
・マーケティングチャネル分析
マーケティングチャネル
世界のDUV・EUVフォトレジストの販売業者と販売代理店
11 まとめ
12 付録
・注記
・クライアントの例
・免責事項
・DUV・EUVフォトレジストのタイプ別セグメント
・DUV・EUVフォトレジストの用途別セグメント
・DUV・EUVフォトレジストの世界市場概要、2023年
・主な注意点
・DUV・EUVフォトレジストの世界市場規模：2023年VS2030年
・DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高：2019年～2030年
・DUV・EUVフォトレジストのグローバル販売量：2019年～2030年
・DUV・EUVフォトレジストの売上高上位3社および5社の市場シェア、2023年
・タイプ別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高
・タイプ別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル価格
・用途別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高
・用途別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル価格
・地域別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2023年・2030年
・地域別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年 VS 2023年 VS 2030年
・地域別-DUV・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・国別-北米のDUV・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・米国のDUV・EUVフォトレジストの売上高
・カナダのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・メキシコのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・国別-ヨーロッパのDUV・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・ドイツのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・フランスのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・英国のDUV・EUVフォトレジストの売上高
・イタリアのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・ロシアのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・地域別-アジアのDUV・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・中国のDUV・EUVフォトレジストの売上高
・日本のDUV・EUVフォトレジストの売上高
・韓国のDUV・EUVフォトレジストの売上高
・東南アジアのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・インドのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・国別-南米のDUV・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・ブラジルのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・アルゼンチンのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・国別-中東・アフリカDUV・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・トルコのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・イスラエルのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・サウジアラビアのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・UAEのDUV・EUVフォトレジストの売上高
・世界のDUV・EUVフォトレジストの生産能力
・地域別DUV・EUVフォトレジストの生産割合（2023年対2030年）
・DUV・EUVフォトレジスト産業のバリューチェーン
・マーケティングチャネル
| ※参考情報 DUVおよびEUVフォトレジストは、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たす材料です。これらのフォトレジストは、特に微細加工技術において、回路パターンを基板上に転写するために使用されます。ここでは、DUVとEUVフォトレジストの概念について、定義、特徴、種類、用途、関連技術を詳しく説明いたします。 まず、DUV（Deep Ultraviolet）とEUV（Extreme Ultraviolet）という用語の定義について触れます。DUVフォトレジストは、波長が248nmや193nmの紫外線を使用してパターンを形成するための材料です。一方、EUVフォトレジストは、波長が13.5nmと非常に短い紫外線を使用しており、主に7nmプロセスやそれ以降の製造技術において用いられています。この二つの技術は、微細化が進む半導体製造業界において重要な役割を担っています。 DUVフォトレジストの特徴としては、次の点が挙げられます。まず、DUVフォトレジストは比較的高い感度を持ち、紫外線の照射によって化学反応を引き起こします。この反応によって、露光された部分が変化し、パターンの形成が可能となります。また、高い解像度を持つため、微細なパターンを形成することができます。さらに、DUVフォトレジストは、通常のプロセス条件下で安定性が高く、良好な感光性を持っています。ただし、微細化が進むにつれて、限界があるため、より進化した製品が求められています。 一方、EUVフォトレジストの特徴は、その波長の短さに由来しています。EUV光は、非常に短い波長を持つため、より微細なパターンを形成することができます。これにより、7nm以下のプロセス技術に適用可能であり、今後の半導体技術の進展に寄与することが期待されています。しかし、EUVフォトレジストは、一般的にDUVフォトレジストよりも複雑で高価であるため、製造コストが大きな課題となっています。 次に、DUVおよびEUVフォトレジストの種類について述べます。DUVフォトレジストには、アニリンダイボンやアクリル系、ポリイミド系の材料が一般的に用いられています。これらの材料は、それぞれ異なる特性を持ち、用途に応じて選ばれます。たとえば、アクリル系フォトレジストは高い感度を持ち、解像度が高いため、微細パターンの形成に適しています。 EUVフォトレジストについては、現在、様々なタイプが開発されています。具体的には、ポリマー系や低分子系のフォトレジストが存在します。特にポリマー系フォトレジストは、高感度で高解像度を実現するための主要な材料です。しかし、EUVに特有の課題として、光の吸収やエッチャビリティなど、さまざまな要因が性能に影響を与えるため、研究開発が進められています。 用途についても触れておきます。DUVフォトレジストは、主にスマートフォン、コンピュータ、各種電子機器の製造に使用されており、一般的な集積回路のパターン形成に広く利用されています。半導体産業においては、5nmまでのプロセス技術で広く使用されており、高い歩留まりと良好な解像度が求められます。 一方、EUVフォトレジストは、最先端プロセス技術（7nm以下）を採用する半導体製造において不可欠な材料となっています。特に、AIや5G通信技術など新しい応用が増えている中で、EUV技術の導入は重要なテーマです。 さらに、関連技術について考えると、フォトレジストの性能向上に向けた研究が進められています。具体的には、ナノインプリントリソグラフィや電子ビームリソグラフィなど、新しいパターン形成技術が開発され、既存のDUVやEUVフォトレジストと組み合わせることで、更なる解像度向上や加工精度の改善が図られています。また、露光装置自体の進化も重要で、EUV露光装置の開発は業界全体に影響を与える重大な要素となっています。 DUVおよびEUVフォトレジストは、半導体製造における微細パターン形成の要であり、高度な技術革新が求められる領域です。今後も、これらのフォトレジストの性能向上に向けた研究開発が続くでしょう。新たな材料の創出や加工技術の革新が進む中で、さらなる高度化が期待されます。これにより、次世代の半導体デバイスが実現し、私たちの生活を豊かにする技術的基盤が築かれていくことが期待されます。 |
