1 当調査分析レポートの紹介
・KrF・ArF・EUVフォトレジスト市場の定義
・市場セグメント
タイプ別：KrFフォトレジスト、ArFフォトレジスト、EUVフォトレジスト
用途別：半導体＆ICS、液晶ディスプレイ、プリント基板、その他
・世界のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場概観
・本レポートの特徴とメリット
・調査方法と情報源
調査方法
調査プロセス
基準年
レポートの前提条件と注意点
2 KrF・ArF・EUVフォトレジストの世界市場規模
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの世界市場規模：2023年VS2030年
・KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高、展望、予測：2019年～2030年
・KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高：2019年～2030年
3 企業の概況
・グローバル市場におけるKrF・ArF・EUVフォトレジスト上位企業
・グローバル市場におけるKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高上位企業ランキング
・グローバル市場におけるKrF・ArF・EUVフォトレジストの企業別売上高ランキング
・世界の企業別KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・世界のKrF・ArF・EUVフォトレジストのメーカー別価格（2019年～2024年）
・グローバル市場におけるKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高上位3社および上位5社、2023年
・グローバル主要メーカーのKrF・ArF・EUVフォトレジストの製品タイプ
・グローバル市場におけるKrF・ArF・EUVフォトレジストのティア1、ティア2、ティア3メーカー
グローバルKrF・ArF・EUVフォトレジストのティア1企業リスト
グローバルKrF・ArF・EUVフォトレジストのティア2、ティア3企業リスト
4 製品タイプ別分析
・概要
タイプ別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの世界市場規模、2023年・2030年
KrFフォトレジスト、ArFフォトレジスト、EUVフォトレジスト
・タイプ別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高と予測
タイプ別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2019年～2024年
タイプ別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2025年～2030年
タイプ別-KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
5 用途別分析
・概要
用途別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの世界市場規模、2023年・2030年
半導体＆ICS、液晶ディスプレイ、プリント基板、その他
・用途別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高と予測
用途別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2019年～2024年
用途別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2025年～2030年
用途別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
6 地域別分析
・地域別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの市場規模、2023年・2030年
・地域別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高と予測
地域別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高、2019年～2024年
地域別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高、2025年～2030年
地域別 – KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高シェア、2019年～2030年
・北米
北米のKrF・ArF・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
米国のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
カナダのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
メキシコのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・ヨーロッパ
ヨーロッパのKrF・ArF・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年〜2030年
ドイツのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
フランスのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イギリスのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イタリアのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
ロシアのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・アジア
アジアのKrF・ArF・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
中国のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
日本のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
韓国のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
東南アジアのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
インドのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・南米
南米のKrF・ArF・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
ブラジルのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
アルゼンチンのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・中東・アフリカ
中東・アフリカのKrF・ArF・EUVフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
トルコのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イスラエルのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
サウジアラビアのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
UAEKrF・ArF・EUVフォトレジストの市場規模、2019年～2030年
7 主要メーカーのプロフィール
※掲載企業：DuPont、Fujifilm Electronic Materials、Tokyo Ohka Kogyo、Merck Group、JSR Corporation、LG Chem、Shin-Etsu Chemical、Sumitomo、Chimei、Daxin、Everlight Chemical、Dongjin Semichem、Great Eastern Resins Industrial、Chang Chun Group
・Company A
Company Aの会社概要
Company Aの事業概要
Company AのKrF・ArF・EUVフォトレジストの主要製品
Company AのKrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル販売量・売上
Company Aの主要ニュース＆最新動向
・Company B
Company Bの会社概要
Company Bの事業概要
Company BのKrF・ArF・EUVフォトレジストの主要製品
Company BのKrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル販売量・売上
Company Bの主要ニュース＆最新動向
…
…
8 世界のKrF・ArF・EUVフォトレジスト生産能力分析
・世界のKrF・ArF・EUVフォトレジスト生産能力
・グローバルにおける主要メーカーのKrF・ArF・EUVフォトレジスト生産能力
・グローバルにおけるKrF・ArF・EUVフォトレジストの地域別生産量
9 主な市場動向、機会、促進要因、抑制要因
・市場の機会と動向
・市場の促進要因
・市場の抑制要因
10 KrF・ArF・EUVフォトレジストのサプライチェーン分析
・KrF・ArF・EUVフォトレジスト産業のバリューチェーン
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの上流市場
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの下流市場と顧客リスト
・マーケティングチャネル分析
マーケティングチャネル
世界のKrF・ArF・EUVフォトレジストの販売業者と販売代理店
11 まとめ
12 付録
・注記
・クライアントの例
・免責事項
・KrF・ArF・EUVフォトレジストのタイプ別セグメント
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの用途別セグメント
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの世界市場概要、2023年
・主な注意点
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの世界市場規模：2023年VS2030年
・KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高：2019年～2030年
・KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル販売量：2019年～2030年
・KrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高上位3社および5社の市場シェア、2023年
・タイプ別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高
・タイプ別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル価格
・用途別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高
・用途別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル価格
・地域別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高、2023年・2030年
・地域別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年 VS 2023年 VS 2030年
・地域別-KrF・ArF・EUVフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・国別-北米のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・米国のKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・カナダのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・メキシコのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・国別-ヨーロッパのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・ドイツのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・フランスのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・英国のKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・イタリアのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・ロシアのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・地域別-アジアのKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・中国のKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・日本のKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・韓国のKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・東南アジアのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・インドのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・国別-南米のKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・ブラジルのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・アルゼンチンのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・国別-中東・アフリカKrF・ArF・EUVフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・トルコのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・イスラエルのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・サウジアラビアのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・UAEのKrF・ArF・EUVフォトレジストの売上高
・世界のKrF・ArF・EUVフォトレジストの生産能力
・地域別KrF・ArF・EUVフォトレジストの生産割合（2023年対2030年）
・KrF・ArF・EUVフォトレジスト産業のバリューチェーン
・マーケティングチャネル
| ※参考情報 フォトレジストは、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たす材料であり、光を使ってパターンを基板上に転写する際に必要不可欠です。フォトレジストには、主にKrF（カリウム・フルオライド）、ArF（アルゴン・フルオライド）、EUV（極端紫外線）フォトレジストの3種類が存在します。それぞれのフォトレジストは異なる波長の光を利用しており、用途や特性が異なります。 まず、KrFフォトレジストについて説明します。KrFフォトレジストは、波長248ナノメートルの光を使用してパターンを形成します。主に、0.25ミクロン以上の解像度が求められるプロセスで使用されます。KrFフォトレジストの特徴として、高い感度と優れた解像度を持つことが挙げられます。また、ポジ型とネガ型の両方のフォトレジストとして利用可能であり、選択肢が広がります。KrFフォトレジストは、一般的に CMOS（相補型金属酸化膜半導体）素子の製造などで広く用いられていますが、微細化が進むにつれて、解像度の限界が課題となっています。 次に、ArFフォトレジストについて見てみましょう。ArFフォトレジストは、波長193ナノメートルの光を用います。KrFフォトレジストよりも短い波長を持つため、より高い解像度が求められます。ArFフォトレジストの特性は、微細パターン形成能力の向上であり、0.13ミクロン以下の解像度を実現可能です。これにより、次世代の半導体デバイスに求められるトランジスタの微細化が実現されています。さらに、ArFフォトレジストは、主にポジ型フォトレジストとして使用され、そのプロセスは良好なエッチング特性を持っています。このため、メモリーやプロセッサーの製造プロセスで重要な役割を果たしています。 一方、EUVフォトレジストは、極端紫外線（EUV）を利用する新しい技術であり、波長は約13.5ナノメートルです。EUVの導入により、極限の微細化が可能となり、5ナノメートル以下の回路パターンの形成が実現されています。これは、今後の半導体技術の鍵となる技術です。EUVフォトレジストの大きな特徴は、非常に高い解像度を持っていることです。より小さな構造を形成できるため、スケーラビリティの向上や電力消費の低減が可能になります。 EUV技術は、従来のフォトリソグラフィ技術とは大きく異なる点が多いため、EUVフォトレジストには新しい材料やプロセスが必要です。特に、EUVフォトレジストは、非常に高い感度と、耐エッチング性が求められます。また、EUVの光源技術やマスク技術も進化しており、これらの技術の進展がEUVフォトレジストの性能向上に寄与しています。 フォトレジストの種類によって、製造プロセスや応用分野も異なります。例えば、KrFフォトレジストは依然として多くの工場で使用されていますが、ArFフォトレジストは微細化が進むにつれて、より多くのデバイスで利用されています。EUVフォトレジストは、最先端の半導体製造プロセスにおいて重要な位置を占めています。 関連技術として、フォトリソグラフィ技術、ウェハー処理技術、エッチング技術などが挙げられます。フォトリソグラフィは、フォトレジストを使って回路パターンを基板上に転写する技術で、これにより半導体デバイスが形成されます。ウェハー処理技術は、クリーニングや前処理などを含む一連のプロセスで、フォトレジストの効果を最大限に引き出すために必要不可欠です。エッチング技術は、転写されたパターンを基板に定着させるために重要な工程であり、フォトレジストの性質と密接に関連しています。 今後のフォトレジスト技術においては、さらなる解像度向上や工程の簡略化、コスト削減が求められています。また、持続可能性や環境への影響にも配慮した新しい材料の開発も重要な課題となっています。特に、半導体業界の競争が激化する中で、効率的で高い性能をもつフォトレジストの開発は、設計技術やプロセス技術の進化とも連携しながら進んでいくでしょう。 フォトレジストは、半導体産業の発展とともに進化しており、今後の技術革新には欠かせない要素です。KrF、ArF、EUV各フォトレジストの特性を活かした研究開発は、より高性能な半導体デバイスの実現に寄与し、情報技術の未来を支える重要な役割を担っています。 |
