【英語タイトル】Chemical Vapour Deposition (CVD) Equipment Market Report by Technology (Plasma Enhanced CVD (PECVD), Low Pressure CVD (LPCVD), Metal Organic CVD (MOCVD), Atmospheric Pressure CVD (APCVD), and Others), Application (Coatings, Electronics, Catalysis, and Others), End User (Memory, Foundry, IDM, Logic), and Region 2024-2032
	・商品コード：IMARC24APL299 ・発行会社（調査会社）：IMARC ・発行日：2024年3月    最新版(2025年又は2026年)版があります。お問い合わせください。 ・ページ数：147 ・レポート言語：英語 ・レポート形式：PDF ・納品方法：Eメール ・調査対象地域：グローバル ・産業分野：化学

世界の化学気相成長（CVD）装置市場規模は、2023年に305億米ドルに達しました。今後、IMARC Groupは、2024年から2032年にかけて7.25%の成長率（CAGR）を示し、2032年までに583億米ドルに達すると予測しています。エレクトロニクス産業の著しい成長、医療用途でのCVD装置需要の増加、広範な研究開発（R&D）活動が市場を牽引する主な要因の一部です。
化学気相成長（CVD）装置は、ガス状の試薬と熱による化学反応を利用して、さまざまな材料の薄膜を基板上に蒸着するために使用されます。装置は通常、反応室、ガス供給システム、エネルギー源、真空システム、加熱システム、排気システムで構成されています。CVD装置は、ソーラーパネル、発光ダイオード、集積回路（IC）の製造に使用される材料を作るために、コーティングや半導体産業で広く使用されています。この装置は、膜純度、膜厚、組成、微細構造の制御に優れた、高品質で均一な膜を製造します。CVD装置は、多用途性、低温蒸着、高生産速度、低廃棄物発生を示す強力なツールです。そのため、エレクトロニクス、コーティング、触媒産業など、幅広い用途で使用されています。

化学蒸着（CVD）装置市場の動向：
世界中のエレクトロニクス産業で製品が広く採用されていることが、市場成長を促進する主な要因の1つです。CVD装置は、拡散バリアや高熱伝導性基板（ヒートシンク）などの関連構造だけでなく、高度な電子導体や絶縁体の設計や加工にも広く使用されています。これに伴い、マイクロチップ、トランジスター、センサーなどのマイクロエレクトロニクス部品に対する需要が増加していることも、市場の成長を後押ししています。さらに、フラットパネルディスプレイ、ノートパソコン、ストレージデバイス、携帯電話、その他の電子機器の生産におけるCVD装置の需要の高まりも、成長を促進する要因となっています。これとは別に、より低い基板温度で材料を成膜するプラズマエンハンストCVD（PECVD）技術の導入は、基板への熱応力の低減に役立ち、温度に敏感な材料の使用を可能にするため、市場成長に弾みをつけています。さらに、結晶シリコン太陽電池の結晶シリコン蒸着から、薄膜高性能フィルム太陽電池のさまざまな材料の蒸着など、太陽電池製造の幅広い用途に装置が広く利用されていることも、市場の成長を後押ししています。さらに、マルチチャンバーCVD装置の発売により、1つのプロセスで複数の材料の成膜が可能になり、効率の向上と製造時間の短縮に貢献しています。医療用途でのCVD装置需要の増加、広範な研究開発（R&D）活動、さまざまな産業でのコーティング需要の増加、国内製造を奨励するためのさまざまな政府イニシアチブの実施など、その他の要因も市場の成長を促進すると予想されます。

主な市場セグメンテーション
IMARC Groupは、2024年から2032年にかけての世界、地域、国レベルの予測とともに、世界の化学気相成長（CVD）装置市場の各セグメントにおける主要動向の分析を提供しています。当レポートでは、市場を技術、用途、エンドユーザーに基づいて分類しています。

技術の洞察
プラズマエンハンストCVD（PECVD）
低圧CVD（LPCVD）
有機金属CVD（MOCVD）
大気圧CVD（APCVD）
その他

この調査レポートは、化学気相成長（CVD）装置市場を技術別に詳細に分類・分析しています。これには、プラズマエンハンストCVD（PECVD）、低圧CVD（LPCVD）、有機金属CVD（MOCVD）、大気圧CVD（APCVD）、その他が含まれます。同レポートによると、低圧CVD（LPCVD）が最大セグメント。

アプリケーションの洞察

コーティング
エレクトロニクス
触媒
その他

化学気相成長（CVD）装置市場の用途別詳細分析も掲載。これには、コーティング、エレクトロニクス、触媒、その他が含まれます。レポートによると、エレクトロニクスが最大の市場シェアを占めています。

エンドユーザーの洞察

メモリ
ファウンドリ
IDM
ロジック

本レポートでは、化学気相成長（CVD）装置市場をエンドユーザー別に詳細に分類・分析しています。これにはメモリ、ファウンドリ、IDM、ロジックが含まれます。それによると、ファウンドリが最大セグメントです。

地域別インサイト
北米
米国
カナダ
欧州
ドイツ
フランス
イギリス
イタリア
スペイン
ロシア
その他
アジア太平洋
中国
日本
インド
韓国
オーストラリア
インドネシア
その他
ラテンアメリカ
ブラジル
メキシコ
その他
中東・アフリカ

また、北米（米国、カナダ）、欧州（ドイツ、フランス、英国、イタリア、スペイン、ロシア、その他）、アジア太平洋（中国、日本、インド、韓国、オーストラリア、インドネシア、その他）、中南米（ブラジル、メキシコ、その他）、中東・アフリカなど、主要な地域市場についても包括的に分析しています。同レポートによると、アジア太平洋地域は化学気相成長（CVD）装置の最大市場。アジア太平洋地域の化学気相成長（CVD）装置市場を牽引する要因としては、医療用途でのCVD装置需要の増加、広範な研究開発（R&D）活動、急速な技術進歩などが挙げられます。

競争環境：
本レポートでは、世界の化学蒸着（CVD）装置市場における競争環境についても包括的に分析しています。主要企業の詳細プロフィールも掲載しています。対象企業には、Aixtron SE、Applied Materials Inc.、CVD Equipment Corporation、IHI Corporation、Jusung Engineering Co. Ltd.、Lam Research Corporation、Oxford Instruments plc、Plasma-Therm LLC、ULVAC Inc.、Veeco Instruments Inc.などがあります。なお、これは一部の企業リストであり、完全なリストは報告書に記載されています。

本レポートで扱う主な質問
世界の化学気相成長（CVD）装置市場はこれまでどのように推移してきましたか？
世界の化学蒸着（CVD）装置市場における促進要因、阻害要因、機会は？
各駆動要因、阻害要因、機会が世界の化学気相成長（CVD）装置市場に与える影響は？
主要な地域市場とは？
最も魅力的な化学気相成長（CVD）装置市場を代表する国は？
技術に基づく市場の内訳は？
化学気相成長（CVD）装置市場で最も魅力的な技術はどれですか？
用途別の市場構成は？
化学気相成長（CVD）装置市場で最も魅力的なアプリケーションはどれですか？
エンドユーザーに基づく市場の内訳は？
化学気相成長（CVD）装置市場で最も魅力的なエンドユーザーは？
世界の化学蒸着（CVD）装置市場の競争構造は？
世界の化学気相蒸着（CVD）装置市場における主要プレイヤー/企業は？