1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査目的
2.2 関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定手法
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界の原子層堆積装置市場
5.1 市場概要
5.2 市場実績
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 製品別市場分析
6.1 金属ALD
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 酸化アルミニウムALD
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 プラズマ強化ALD
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 触媒ALD
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
6.5 その他
6.5.1 市場動向
6.5.2 市場予測
7 用途別市場分析
7.1 半導体
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 太陽電池デバイス
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 エレクトロニクス
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
7.4 医療機器
7.4.1 市場動向
7.4.2 市場予測
7.5 その他
7.5.1 市場動向
7.5.2 市場予測
8 地域別市場分析
8.1 北米
8.1.1 アメリカ合衆国
8.1.1.1 市場動向
8.1.1.2 市場予測
8.1.2 カナダ
8.1.2.1 市場動向
8.1.2.2 市場予測
8.2 アジア太平洋
8.2.1 中国
8.2.1.1 市場動向
8.2.1.2 市場予測
8.2.2 日本
8.2.2.1 市場動向
8.2.2.2 市場予測
8.2.3 インド
8.2.3.1 市場動向
8.2.3.2 市場予測
8.2.4 韓国
8.2.4.1 市場動向
8.2.4.2 市場予測
8.2.5 オーストラリア
8.2.5.1 市場動向
8.2.5.2 市場予測
8.2.6 インドネシア
8.2.6.1 市場動向
8.2.6.2 市場予測
8.2.7 その他
8.2.7.1 市場動向
8.2.7.2 市場予測
8.3 欧州
8.3.1 ドイツ
8.3.1.1 市場動向
8.3.1.2 市場予測
8.3.2 フランス
8.3.2.1 市場動向
8.3.2.2 市場予測
8.3.3 イギリス
8.3.3.1 市場動向
8.3.3.2 市場予測
8.3.4 イタリア
8.3.4.1 市場動向
8.3.4.2 市場予測
8.3.5 スペイン
8.3.5.1 市場動向
8.3.5.2 市場予測
8.3.6 ロシア
8.3.6.1 市場動向
8.3.6.2 市場予測
8.3.7 その他
8.3.7.1 市場動向
8.3.7.2 市場予測
8.4 ラテンアメリカ
8.4.1 ブラジル
8.4.1.1 市場動向
8.4.1.2 市場予測
8.4.2 メキシコ
8.4.2.1 市場動向
8.4.2.2 市場予測
8.4.3 その他
8.4.3.1 市場動向
8.4.3.2 市場予測
8.5 中東・アフリカ
8.5.1 市場動向
8.5.2 国別市場分析
8.5.3 市場予測
9 SWOT分析
9.1 概要
9.2 強み
9.3 弱み
9.4 機会
9.5 脅威
10 バリューチェーン分析
11 ポーターの5つの力分析
11.1 概要
11.2 買い手の交渉力
11.3 供給者の交渉力
11.4 競争の激しさ
11.5 新規参入の脅威
11.6 代替品の脅威
12 価格分析
13 競争環境
13.1 市場構造
13.2 主要プレイヤー
13.3 主要プレイヤーのプロファイル
13.3.1 Arradiance LLC
13.3.1.1 会社概要
13.3.1.2 製品ポートフォリオ
13.3.2 ASM International
13.3.2.1 会社概要
13.3.2.2 製品ポートフォリオ
13.3.2.3 財務状況
13.3.3 Beneq Oy
13.3.3.1 会社概要
13.3.3.2 製品ポートフォリオ
13.3.4 CVD Equipment Corporation
13.3.4.1 会社概要
13.3.4.2 製品ポートフォリオ
13.3.4.3 財務状況
13.3.5 Forge Nano Inc.
13.3.5.1 会社概要
13.3.5.2 製品ポートフォリオ
13.3.6 Kurt J. Lesker Company
13.3.6.1 会社概要
13.3.6.2 製品ポートフォリオ
13.3.7 ラム・リサーチ・コーポレーション
13.3.7.1 会社概要
13.3.7.2 製品ポートフォリオ
13.3.7.3 財務状況
13.3.7.4 SWOT分析
13.3.8 オックスフォード・インスツルメンツ・ピーエルシー
13.3.8.1 会社概要
13.3.8.2 製品ポートフォリオ
13.3.8.3 財務状況
13.3.8.4 SWOT分析
13.3.9 ピコサン・オイ（アプライド・マテリアルズ社）
13.3.9.1 会社概要
13.3.9.2 製品ポートフォリオ
13.3.10 SENTECH Instruments GmbH
13.3.10.1 会社概要
13.3.10.2 製品ポートフォリオ
13.3.11 Veeco Instruments Inc.
13.3.11.1 会社概要
13.3.11.2 製品ポートフォリオ
13.3.11.3 財務状況
13.3.12 ウォニックIPS株式会社
13.3.12.1 会社概要
13.3.12.2 製品ポートフォリオ
13.3.12.3 財務状況
13.3.13 東京エレクトロン株式会社
13.3.13.1 会社概要
13.3.13.2 製品ポートフォリオ
13.3.13.3 財務状況
13.3.13.4 SWOT分析

1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Atomic Layer Deposition Equipment Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Market Forecast
6 Market Breakup by Product
6.1 Metal ALD
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 Aluminum Oxide ALD
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 Plasma Enhanced ALD
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
6.4 Catalytic ALD
6.4.1 Market Trends
6.4.2 Market Forecast
6.5 Others
6.5.1 Market Trends
6.5.2 Market Forecast
7 Market Breakup by Application
7.1 Semiconductors
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 Solar Devices
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 Electronics
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
7.4 Medical Equipment
7.4.1 Market Trends
7.4.2 Market Forecast
7.5 Others
7.5.1 Market Trends
7.5.2 Market Forecast
8 Market Breakup by Region
8.1 North America
8.1.1 United States
8.1.1.1 Market Trends
8.1.1.2 Market Forecast
8.1.2 Canada
8.1.2.1 Market Trends
8.1.2.2 Market Forecast
8.2 Asia-Pacific
8.2.1 China
8.2.1.1 Market Trends
8.2.1.2 Market Forecast
8.2.2 Japan
8.2.2.1 Market Trends
8.2.2.2 Market Forecast
8.2.3 India
8.2.3.1 Market Trends
8.2.3.2 Market Forecast
8.2.4 South Korea
8.2.4.1 Market Trends
8.2.4.2 Market Forecast
8.2.5 Australia
8.2.5.1 Market Trends
8.2.5.2 Market Forecast
8.2.6 Indonesia
8.2.6.1 Market Trends
8.2.6.2 Market Forecast
8.2.7 Others
8.2.7.1 Market Trends
8.2.7.2 Market Forecast
8.3 Europe
8.3.1 Germany
8.3.1.1 Market Trends
8.3.1.2 Market Forecast
8.3.2 France
8.3.2.1 Market Trends
8.3.2.2 Market Forecast
8.3.3 United Kingdom
8.3.3.1 Market Trends
8.3.3.2 Market Forecast
8.3.4 Italy
8.3.4.1 Market Trends
8.3.4.2 Market Forecast
8.3.5 Spain
8.3.5.1 Market Trends
8.3.5.2 Market Forecast
8.3.6 Russia
8.3.6.1 Market Trends
8.3.6.2 Market Forecast
8.3.7 Others
8.3.7.1 Market Trends
8.3.7.2 Market Forecast
8.4 Latin America
8.4.1 Brazil
8.4.1.1 Market Trends
8.4.1.2 Market Forecast
8.4.2 Mexico
8.4.2.1 Market Trends
8.4.2.2 Market Forecast
8.4.3 Others
8.4.3.1 Market Trends
8.4.3.2 Market Forecast
8.5 Middle East and Africa
8.5.1 Market Trends
8.5.2 Market Breakup by Country
8.5.3 Market Forecast
9 SWOT Analysis
9.1 Overview
9.2 Strengths
9.3 Weaknesses
9.4 Opportunities
9.5 Threats
10 Value Chain Analysis
11 Porters Five Forces Analysis
11.1 Overview
11.2 Bargaining Power of Buyers
11.3 Bargaining Power of Suppliers
11.4 Degree of Competition
11.5 Threat of New Entrants
11.6 Threat of Substitutes
12 Price Analysis
13 Competitive Landscape
13.1 Market Structure
13.2 Key Players
13.3 Profiles of Key Players
13.3.1 Arradiance LLC
13.3.1.1 Company Overview
13.3.1.2 Product Portfolio
13.3.2 ASM International
13.3.2.1 Company Overview
13.3.2.2 Product Portfolio
13.3.2.3 Financials
13.3.3 Beneq Oy
13.3.3.1 Company Overview
13.3.3.2 Product Portfolio
13.3.4 CVD Equipment Corporation
13.3.4.1 Company Overview
13.3.4.2 Product Portfolio
13.3.4.3 Financials
13.3.5 Forge Nano Inc.
13.3.5.1 Company Overview
13.3.5.2 Product Portfolio
13.3.6 Kurt J. Lesker Company
13.3.6.1 Company Overview
13.3.6.2 Product Portfolio
13.3.7 Lam Research Corporation
13.3.7.1 Company Overview
13.3.7.2 Product Portfolio
13.3.7.3 Financials
13.3.7.4 SWOT Analysis
13.3.8 Oxford Instruments plc
13.3.8.1 Company Overview
13.3.8.2 Product Portfolio
13.3.8.3 Financials
13.3.8.4 SWOT Analysis
13.3.9 Picosun Oy (Applied Materials Inc.)
13.3.9.1 Company Overview
13.3.9.2 Product Portfolio
13.3.10 SENTECH Instruments GmbH
13.3.10.1 Company Overview
13.3.10.2 Product Portfolio
13.3.11 Veeco Instruments Inc.
13.3.11.1 Company Overview
13.3.11.2 Product Portfolio
13.3.11.3 Financials
13.3.12 Wonik IPS Co. Ltd.
13.3.12.1 Company Overview
13.3.12.2 Product Portfolio
13.3.12.3 Financials
13.3.13 Tokyo Electron Limited
13.3.13.1 Company Overview
13.3.13.2 Product Portfolio
13.3.13.3 Financials
13.3.13.4 SWOT Analysis

※参考情報 原子層堆積装置（ALD）は、非常に薄い膜を原子単位で精密に堆積するための技術です。この技術は、半導体、バイオテクノロジー、材料科学など多様な分野で利用されています。ALDの特徴は、堆積プロセスが反応性ガスのサイクルによって制御される点です。このプロセスでは、基板を交互に異なる前駆体ガスにさらすことで、反応を成功させて薄膜を形成します。各サイクルでは、1層分の原子または分子が堆積され、これにより非常に均一で高品質な膜を得ることができます。 ALDのプロセスは、主に二つのステップで構成されます。最初のステップでは、基板上に選択した前駆体ガスを導入し、基板表面に吸着させます。次に、次の前駆体ガスを導入し、吸着した前駆体と反応して膜が生成されます。この一連のサイクルを繰り返すことで、必要な膜厚を正確にコントロールすることが可能です。この手法は、膜の厚さや組成だけでなく、表面の均一性や密着性に優れているため、さまざまな応用が可能となります。 ALDにはいくつかの種類があります。例えば、真空ALDやプラズマ励起ALD、液相ALDなどがあります。真空ALDは静的な環境下で行われるため、非常に高い堆積精度を実現します。一方、プラズマ励起ALDは、プラズマを利用して前駆体の反応性を高めることにより、低温でも堆積を行うことが可能です。液相ALDは、液体の前駆体を使用することで、異なる用途に対応した膜堆積が可能となります。 ALDの用途は非常に広範囲にわたります。半導体産業では、トランジスタやメモリデバイスの製造において、絶縁膜や導電膜の形成に利用されます。特に、デバイスの微細化が進む中で、ALDの精度は重要な要素となっています。また、太陽光発電や蓄電池などのエネルギー関連分野でも、高機能材料の合成にALDが活用されています。さらに、バイオテクノロジー分野では、生体材料やコーティングの生成にも使用されることがあります。 ALDはその精度と制御性に優れるため、ナノテクノロジーの分野でも重要な役割を果たしています。ナノ粒子やナノワイヤなどの構造体の製造において、ALDを用いることで、これらの材料を高品質で均一に作成することが可能となります。また、ALDは異なる材料（金属酸化物や窒化物、金属など）を組み合わせることで、複層膜の形成にも適しています。これにより、新しい材料の開発が進み、多様な用途が開拓されています。 さらに、ALDに関連する技術も進化しています。例えば、リアルタイムで膜の成長を監視するための技術や、膜の特性を評価するための手法が開発されています。これにより、ALDプロセスの最適化や新材料の探求が加速しています。また、ALDの自動化技術も進展し、高い生産性を実現するための装置が登場しています。 このように、原子層堆積装置（ALD）は、半導体からエネルギー、バイオテクノロジーに至るまで、広範な分野で革新をもたらしている重要な技術です。その高精度で均一な薄膜形成の能力は、未来の技術におけるキーとなる要素であり、今後もさらなる発展が期待されています。ALD技術の進化とともに、多様な応用が広がり、より高機能な材料やデバイスの開発が進むことでしょう。