1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査の目的
2.2 ステークホルダー
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法
3 エグゼクティブ・サマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要産業動向
5 世界のリソグラフィシステム市場
5.1 市場概要
5.2 市場パフォーマンス
5.3 COVID-19の影響
5.4 価格分析
5.4.1 主要価格指標
5.4.2 価格構造
5.4.3 マージン分析
5.5 技術別市場構成
5.6 用途別市場構成
5.7 地域別市場構成比
5.8 市場予測
5.9 SWOT分析
5.9.1 概要
5.9.2 強み
5.9.3 弱点
5.9.4 機会
5.9.5 脅威
5.10 バリューチェーン分析
5.10.1 概要
5.10.2 研究開発
5.10.3 原材料調達
5.10.4 製造
5.10.5 マーケティング
5.10.6 流通
5.10.7 最終用途
5.11 ポーターズファイブフォース分析
5.11.1 概要
5.11.2 買い手の交渉力
5.11.3 供給者の交渉力
5.11.4 競争の程度
5.11.5 新規参入の脅威
5.11.6 代替品の脅威
6 技術別市場構成
6.1 ArF液浸
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 KrF
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 i線
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 ArFドライ
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
6.5 EUV
6.5.1 市場動向
6.5.2 市場予測
7 アプリケーション別市場
7.1 ファウンドリー
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 メモリ
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 統合デバイス
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 地域別市場内訳
8.1 アジア太平洋
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 北米
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 欧州
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
8.4 中東・アフリカ
8.4.1 市場動向
8.4.2 市場予測
8.5 中南米
8.5.1 市場動向
8.5.2 市場予測
9 露光装置の製造プロセス
9.1 製品概要
9.2 原材料要件
9.3 製造プロセス
9.4 主な成功要因とリスク要因
10 競争環境
10.1 市場構造
10.2 主要プレーヤー
10.3 主要プレーヤーのプロフィール
10.3.1 ASML Holding
10.3.2 Canon
10.3.3 Nikon
10.3.4 Nuflare Technology, Inc.
10.3.5 Ev Group
10.3.6 Veeco Instruments
10.3.7 SUSS MicroTec
| ※参考情報 リソグラフィシステムは、非常に小さな構造物を半導体デバイス上に形成するための重要な技術です。リソグラフィは、光を用いて感光材料にパターンを転写するプロセスを指します。この技術は、特にIC（集積回路）製造において、微細な回路を作成するために欠かせないものです。 リソグラフィシステムの基本的な定義は、特にフォトリソグラフィというプロセスに基づいています。フォトリソグラフィでは、光源によって照射された光がレジストと呼ばれる感光材料に影響を与え、その結果として許可されたパターンが基板に現れます。この工程の後、エッチングや材料の堆積などのプロセスを経て、最終的なデバイスが形成されるのです。 リソグラフィシステムにはいくつかの種類があります。代表的なものには、紫外線（UV）リソグラフィ、極紫外線（EUV）リソグラフィ、電子ビームリソグラフィ、X線リソグラフィなどがあります。紫外線リソグラフィは、最も一般的な技術であり、半導体製造プロセスで約193nmの波長の光を使用します。EUVリソグラフィは、より短い波長の光（約13.5nm）を利用することで、より微細なパターンを実現することが可能です。電子ビームリソグラフィは、電子ビームを使用してレジストを露光し、高解像度のパターン形成が可能ですが、スループットが低いため主にマスク作成や試作に用いられます。X線リソグラフィは、X線を利用した技術で、特に高解像度の要求がある領域での使用が検討されています。 リソグラフィシステムの用途は非常に広範で、主に半導体デバイスの製造に使用されます。これには、マイクロプロセッサ、メモリチップ、センサー、ディスプレイデバイス、さらには、ナノテクノロジー領域での応用も含まれます。リソグラフィは、製造プロセスの各段階で、異なるパターンを形成するために必要不可欠です。特に、集積回路のトランジスタや配線の微細化が進む中、リソグラフィシステムはその進化に大きく寄与しています。 関連技術には、レジスト材料やマスク、エッチングプロセスなどがあります。レジスト材料は、露光に対する感度や耐久性が求められ、常に改善が進められています。マスクは、露光の際にパターンの転写に使用される重要な部品であり、その精度と品質が最終製品の性能に大きな影響を与えます。また、エッチング技術は、レジストで保護された部分を除去するためのプロセスであり、精緻な加工が求められます。 最近では、リソグラフィ技術の進展に加えて、AI（人工知能）や機械学習を活用したプロセス制御や欠陥検出の研究も進んでいます。これにより、リソグラフィプロセスの効率や精度を向上させることが期待されています。また、ポスト・ムーア時代に対応するための新しい材料や技術の開発も進行中です。 リソグラフィシステムは、現代の電子機器を支える基盤技術です。微細化が進む電子デバイスの要求に応じて、リソグラフィ技術は進化し続けており、今後も新しい技術と用途が登場することが予想されます。これは半導体産業にとって重要な課題であり、技術革新がその成長を支える鍵となります。リソグラフィシステムのさらなる発展により、より効率的で高性能な電子機器の実現が可能となります。 |
❖ 世界のリソグラフィシステム市場に関するよくある質問(FAQ) ❖
・リソグラフィシステムの世界市場規模は？
→IMARC社は2023年のリソグラフィシステムの世界市場規模を99億米ドルと推定しています。
・リソグラフィシステムの世界市場予測は？
→IMARC社は2032年のリソグラフィシステムの世界市場規模を145億米ドルと予測しています。
・リソグラフィシステム市場の成長率は？
→IMARC社はリソグラフィシステムの世界市場が2024年～2032年に年平均4.1%成長すると予測しています。
・世界のリソグラフィシステム市場における主要企業は？
→IMARC社は「ASML Holding、Canon、Nikon、Nuflare Technology、Inc.、Ev Group、Veeco Instruments、SUSS MicroTecなど ...」をグローバルリソグラフィシステム市場の主要企業として認識しています。
※上記FAQの市場規模、市場予測、成長率、主要企業に関する情報は本レポートの概要を作成した時点での情報であり、納品レポートの情報と少し異なる場合があります。
