1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査目的
2.2 関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場
5.1 市場概要
5.2 市場実績
5.3 COVID-19の影響
5.4 価格分析
5.5 フォトレジストタイプ別市場分析
5.6 フォトレジスト関連製品タイプ別市場分析
5.7 用途別市場区分
5.8 地域別市場区分
5.9 市場予測
5.10 SWOT分析
5.10.1 概要
5.10.2 強み
5.10.3 弱み
5.10.4 機会
5.10.5 脅威
5.11 バリューチェーン分析
5.11.1 概要
5.11.2 研究開発
5.11.3 原材料調達
5.11.4 製造
5.11.5 マーケティング
5.11.6 流通
5.11.7 最終用途
5.12 ポーターの5つの力分析
5.12.1 概要
5.12.2 購買者の交渉力
5.12.3 供給者の交渉力
5.12.4 競争の激しさ
5.12.5 新規参入の脅威
5.12.6 代替品の脅威
6 フォトレジスト市場のタイプ別分析
6.1 ArF液浸
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 KrF
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 ArFドライ
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 g線およびi線
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
7 フォトレジスト補助剤のタイプ別市場分析
7.1 反射防止コーティング
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 除去剤
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 現像液
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
7.4 その他
7.4.1 市場動向
7.4.2 市場予測
8 フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：用途別内訳
8.1 半導体および集積回路
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 液晶ディスプレイ（LCD）
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 プリント基板（PCB）
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
8.4 その他
8.4.1 市場動向
8.4.2 市場予測
9 地域別市場分析
9.1 アジア太平洋地域
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 北米
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
9.3 欧州
9.3.1 市場動向
9.3.2 市場予測
9.4 中東・アフリカ
9.4.1 市場動向
9.4.2 市場予測
9.5 ラテンアメリカ
9.5.1 市場動向
9.5.2 市場予測
10 製造プロセス
10.1 製品概要
10.2 原材料要件
10.3 製造プロセス
10.4 主要成功要因とリスク要因
11 競争環境
11.1 市場構造
11.2 主要プレイヤー
11.3 主要プレイヤーのプロファイル
11.3.1 東京応化工業株式会社
11.3.2 JSR株式会社
11.3.3 デュポン・デ・ネムール社
11.3.4 信越化学工業株式会社
11.3.5 富士フイルムエレクトロニクス材料株式会社
11.3.6 住友化学株式会社
11.3.7 メルク アズ エレクトロニクス マテリアルズ
11.3.8 アレズィスト GmbH
11.3.9 アバンター パフォーマンス マテリアルズ LLC
11.3.10 マイクロケミカルズ GmbH
図2：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（10億米ドル）、2017-2022年
図3：世界：フォトレジスト市場：タイプ別内訳（%）、2022年
図4：世界：フォトレジスト関連製品市場：タイプ別内訳（%）、2022年
図5：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：用途別内訳（%）、2022年
図6：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：地域別内訳（%）、2022年
図7：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（10億米ドル）、2023-2028年
図8：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品産業：SWOT分析
図9：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連産業：バリューチェーン分析
図10：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連産業：ポーターの5つの力分析
図11：グローバル：フォトレジスト（ArF液浸）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図12：グローバル：フォトレジスト（ArF液浸）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図13：グローバル：フォトレジスト（KrF）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図14：グローバル：フォトレジスト（KrF）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図15：グローバル：フォトレジスト（ArFドライ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図16：グローバル：フォトレジスト（ArFドライ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図17：グローバル：フォトレジスト（g線・i線）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図18：グローバル：フォトレジスト（g線・i線）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図19：グローバル：フォトレジスト補助剤（反射防止コーティング）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図20：グローバル：フォトレジスト補助剤（反射防止コーティング）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図21：グローバル：フォトレジスト補助剤（リムーバー）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図22：グローバル：フォトレジスト補助剤（リムーバー）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図23：グローバル：フォトレジスト補助剤（現像液）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図24：グローバル：フォトレジスト補助剤（現像液）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図25：グローバル：フォトレジスト関連製品（その他タイプ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図26：グローバル：フォトレジスト関連製品（その他タイプ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図27：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（半導体・IC向け用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図28：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（半導体・IC向け用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図29：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（LCD用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図30：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（LCD用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図31：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（プリント基板用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図32：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（プリント基板用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図33：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（その他の用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図34：グローバル：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（その他の用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図35：アジア太平洋地域：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図36：アジア太平洋地域：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図37：北米：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図38：北米：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図39：欧州：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図40：欧州：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図41：中東・アフリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図42：中東・アフリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図43：ラテンアメリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図44：ラテンアメリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Price Analysis
5.5 Market Breakup by Photoresist Type
5.6 Market Breakup by Photoresist Ancillaries Type
5.7 Market Breakup by Application
5.8 Market Breakup by Region
5.9 Market Forecast
5.10 SWOT Analysis
5.10.1 Overview
5.10.2 Strengths
5.10.3 Weaknesses
5.10.4 Opportunities
5.10.5 Threats
5.11 Value Chain Analysis
5.11.1 Overview
5.11.2 Research and Development
5.11.3 Raw Material Procurement
5.11.4 Manufacturing
5.11.5 Marketing
5.11.6 Distribution
5.11.7 End-Use
5.12 Porters Five Forces Analysis
5.12.1 Overview
5.12.2 Bargaining Power of Buyers
5.12.3 Bargaining Power of Suppliers
5.12.4 Degree of Competition
5.12.5 Threat of New Entrants
5.12.6 Threat of Substitutes
6 Photoresist Market Breakup by Type
6.1 ArF Immersion
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 KrF
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 ArF Dry
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
6.4 g- and i-line
6.4.1 Market Trends
6.4.2 Market Forecast
7 Photoresist Ancillaries Market Breakup by Type
7.1 Anti-Reflective Coatings
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 Remover
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 Developer
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
7.4 Others
7.4.1 Market Trends
7.4.2 Market Forecast
8 Photoresist and Photoresist Ancillaries Market: Breakup by Application
8.1 Semiconductors & ICS
8.1.1 Market Trends
8.1.2 Market Forecast
8.2 LCDs
8.2.1 Market Trends
8.2.2 Market Forecast
8.3 Printed Circuit Boards
8.3.1 Market Trends
8.3.2 Market Forecast
8.4 Others
8.4.1 Market Trends
8.4.2 Market Forecast
9 Market Breakup by Region
9.1 Asia Pacific
9.1.1 Market Trends
9.1.2 Market Forecast
9.2 North America
9.2.1 Market Trends
9.2.2 Market Forecast
9.3 Europe
9.3.1 Market Trends
9.3.2 Market Forecast
9.4 Middle East and Africa
9.4.1 Market Trends
9.4.2 Market Forecast
9.5 Latin America
9.5.1 Market Trends
9.5.2 Market Forecast
10 Manufacturing Process
10.1 Product Overview
10.2 Raw Material Requirements
10.3 Manufacturing Process
10.4 Key Success and Risk Factors
11 Competitive Landscape
11.1 Market Structure
11.2 Key Players
11.3 Profiles of Key Players
11.3.1 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
11.3.2 JSR Corporation
11.3.3 DuPont de Nemours Inc.
11.3.4 Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.
11.3.5 Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
11.3.6 Sumitomo Chemical Co., Ltd.
11.3.7 Merck Az Electronics Materials
11.3.8 Allresist GmbH
11.3.9 Avantor Performance Materials, LLC
11.3.10 Microchemicals GmbH
| ※参考情報 フォトレジストとは、半導体製造プロセスや微細加工において用いられる感光性材料のことを指します。主に、フォトリソグラフィと呼ばれる技術によって、電子回路や微細構造を基板上に形成するために使用されます。フォトレジストは光照射によって化学的に変化し、その特性に基づいてエッチングやメタライゼーションなどの工程が進められます。 フォトレジストには大きく分けて二つの種類があります。まず、ポジ型フォトレジストです。このタイプは、光が照射された部分が溶解し、未照射の部分が残る特性を持っています。これにより、光が当たった部分を除去することができ、必要なパターンを基板に残すことができます。次に、ネガ型フォトレジストです。このタイプは、照射された部分が硬化し、未照射の部分が溶解する特性があります。ネガ型フォトレジストを使用すると、照射されたパターンが基板上に残ります。 フォトレジストの用途は多岐にわたりますが、その最も一般的な利用方法は、半導体チップの製造です。電子機器やスマートフォン、コンピュータなどの基盤である半導体チップの製造には、高精度なパターン形成が必要であり、フォトレジストがその中心的な役割を果たします。また、フォトレジストは太陽電池やMEMS（Micro-Electro-Mechanical Systems）デバイスの製造にも利用されます。 フォトレジストには付属品や関連材料があり、これらもまた重要な役割を担っています。例えば、フォトレジストの塗布にはスピンコーターが使われます。これは、基板にフォトレジストを均一に塗布するための装置です。また、フォトレジストの現像工程では、現像液が必要となります。これにより、露光された部分を選択的に除去することができます。さらに、フォトレジストの特性を向上させるために、感光剤や添加剤が組み合わせて使用されることもあります。 最近の技術動向としては、極紫外線リソグラフィ（EUV）は注目を集めています。この技術では、従来の光源よりも短波長の波長を使用することで、より微細なパターンを形成することが可能となります。これにより、さらなる集積度の向上が期待され、半導体業界の革新につながると考えられています。また、ナノインプリントリソグラフィという技術も注目されています。この技術は、フォトレジストの代わりに弾性型マスクを使用し、高精度なパターン形成を実現します。 フォトレジストの選定やその工程は、最終製品の性能や歩留まりに大きな影響を与えます。そのため、研究者や技術者は常に新しい材料や方法を模索しています。また、ボトムアップアプローチとしての合成生物学やナノテクノロジーなどの新たな分野への応用も進行中であり、将来的にはより一層多機能なフォトレジスト材料が開発されることが期待されています。 総じて、フォトレジストとその付属品は、現代の高度な技術社会において不可欠な要素であり、常に進化し続ける分野です。その技術革新は、電子デバイスの性能向上や新しいアプリケーションの開発に寄与し、私たちの生活に多大な影響を与えていると言えるでしょう。 |
