1 当調査分析レポートの紹介
・深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場の定義
・市場セグメント
タイプ別：プラス糊、マイナス糊
用途別：半導体メモリー、ウエハー製造、集積回路基板、その他
・世界の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場概観
・本レポートの特徴とメリット
・調査方法と情報源
調査方法
調査プロセス
基準年
レポートの前提条件と注意点
2 深紫外KrF・ArFフォトレジストの世界市場規模
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの世界市場規模：2023年VS2030年
・深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高、展望、予測：2019年～2030年
・深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高：2019年～2030年
3 企業の概況
・グローバル市場における深紫外KrF・ArFフォトレジスト上位企業
・グローバル市場における深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高上位企業ランキング
・グローバル市場における深紫外KrF・ArFフォトレジストの企業別売上高ランキング
・世界の企業別深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・世界の深紫外KrF・ArFフォトレジストのメーカー別価格（2019年～2024年）
・グローバル市場における深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高上位3社および上位5社、2023年
・グローバル主要メーカーの深紫外KrF・ArFフォトレジストの製品タイプ
・グローバル市場における深紫外KrF・ArFフォトレジストのティア1、ティア2、ティア3メーカー
グローバル深紫外KrF・ArFフォトレジストのティア1企業リスト
グローバル深紫外KrF・ArFフォトレジストのティア2、ティア3企業リスト
4 製品タイプ別分析
・概要
タイプ別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの世界市場規模、2023年・2030年
プラス糊、マイナス糊
・タイプ別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高と予測
タイプ別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高、2019年～2024年
タイプ別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高、2025年～2030年
タイプ別-深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
5 用途別分析
・概要
用途別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの世界市場規模、2023年・2030年
半導体メモリー、ウエハー製造、集積回路基板、その他
・用途別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高と予測
用途別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高、2019年～2024年
用途別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高、2025年～2030年
用途別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
6 地域別分析
・地域別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの市場規模、2023年・2030年
・地域別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高と予測
地域別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高、2019年～2024年
地域別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高、2025年～2030年
地域別 – 深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高シェア、2019年～2030年
・北米
北米の深紫外KrF・ArFフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
米国の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
カナダの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
メキシコの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・ヨーロッパ
ヨーロッパの深紫外KrF・ArFフォトレジスト売上高・販売量、2019年〜2030年
ドイツの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
フランスの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イギリスの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イタリアの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
ロシアの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・アジア
アジアの深紫外KrF・ArFフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
中国の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
日本の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
韓国の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
東南アジアの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
インドの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・南米
南米の深紫外KrF・ArFフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
ブラジルの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
アルゼンチンの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
・中東・アフリカ
中東・アフリカの深紫外KrF・ArFフォトレジスト売上高・販売量、2019年～2030年
トルコの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
イスラエルの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
サウジアラビアの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場規模、2019年～2030年
UAE深紫外KrF・ArFフォトレジストの市場規模、2019年～2030年
7 主要メーカーのプロフィール
※掲載企業：Tokyo Ohka Kogyo (TOK)、JSR Micro、Fujifilm Holdings Corporation、Shin-Etsu Chemical、DuPont、Dongjin Semichem、Merck KGaA、Hitachi Chemical、Sumitomo Bakelite、LG Chem、Everlight Electronics、Kolon Industries、Dow Chemical Company、HMT (Xiamen) New Material Technology、Jiangsu Nata Opto-electronic Material、Shanghai Sinyang Semiconductor Materials、Crystal Clear Electronic Material、Red Avenue New Materials、Shenzhen RongDa Photosensitive Science & Technology
・Company A
Company Aの会社概要
Company Aの事業概要
Company Aの深紫外KrF・ArFフォトレジストの主要製品
Company Aの深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル販売量・売上
Company Aの主要ニュース＆最新動向
・Company B
Company Bの会社概要
Company Bの事業概要
Company Bの深紫外KrF・ArFフォトレジストの主要製品
Company Bの深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル販売量・売上
Company Bの主要ニュース＆最新動向
…
…
8 世界の深紫外KrF・ArFフォトレジスト生産能力分析
・世界の深紫外KrF・ArFフォトレジスト生産能力
・グローバルにおける主要メーカーの深紫外KrF・ArFフォトレジスト生産能力
・グローバルにおける深紫外KrF・ArFフォトレジストの地域別生産量
9 主な市場動向、機会、促進要因、抑制要因
・市場の機会と動向
・市場の促進要因
・市場の抑制要因
10 深紫外KrF・ArFフォトレジストのサプライチェーン分析
・深紫外KrF・ArFフォトレジスト産業のバリューチェーン
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの上流市場
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの下流市場と顧客リスト
・マーケティングチャネル分析
マーケティングチャネル
世界の深紫外KrF・ArFフォトレジストの販売業者と販売代理店
11 まとめ
12 付録
・注記
・クライアントの例
・免責事項
・深紫外KrF・ArFフォトレジストのタイプ別セグメント
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの用途別セグメント
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの世界市場概要、2023年
・主な注意点
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの世界市場規模：2023年VS2030年
・深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高：2019年～2030年
・深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル販売量：2019年～2030年
・深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高上位3社および5社の市場シェア、2023年
・タイプ別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高
・タイプ別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル価格
・用途別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高
・用途別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル価格
・地域別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高、2023年・2030年
・地域別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年 VS 2023年 VS 2030年
・地域別-深紫外KrF・ArFフォトレジストのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・国別-北米の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・米国の深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・カナダの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・メキシコの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・国別-ヨーロッパの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・ドイツの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・フランスの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・英国の深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・イタリアの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・ロシアの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・地域別-アジアの深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・中国の深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・日本の深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・韓国の深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・東南アジアの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・インドの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・国別-南米の深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・ブラジルの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・アルゼンチンの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・国別-中東・アフリカ深紫外KrF・ArFフォトレジスト市場シェア、2019年～2030年
・トルコの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・イスラエルの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・サウジアラビアの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・UAEの深紫外KrF・ArFフォトレジストの売上高
・世界の深紫外KrF・ArFフォトレジストの生産能力
・地域別深紫外KrF・ArFフォトレジストの生産割合（2023年対2030年）
・深紫外KrF・ArFフォトレジスト産業のバリューチェーン
・マーケティングチャネル
| ※参考情報 深紫外UV（Deep Ultraviolet、DUV）技術は、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たしています。特に、KrF（クリプトンフルオリド、248nm）およびArF（アルゴンフルオリド、193nm）光源を使用したフォトレジストは、ナノスケールの微細加工が求められる現代の半導体デバイス製造に不可欠です。以下では、深紫外KrFおよびArFフォトレジストの概念、特徴、種類、用途、関連技術について述べます。 フォトレジストとは、光に反応して化学的特性が変化する材料であり、主に半導体の回路パターンを形成するために使用されます。フォトリソグラフィ技術の一環として、フォトレジストは基板上に薄い膜としてコーティングされ、その上にマスクを介して光を照射することによってパターンが形成されます。照射された光により、フォトレジストの特性が変わり、次のエッチング工程においての選択的な除去が可能になります。 KrFおよびArFの光源は、深紫外領域に属し、それぞれ248nmおよび193nmの波長を持っています。深紫外光は、短波長の光を使用することにより、より微細なパターンの形成が可能であり、高い解像度を実現します。この解像度の向上は、より小型化された半導体デバイスの製造において必要不可欠です。 KrFフォトレジストは、248nmの波長で動作し、約0.25μmの解像度が求められるプロセスに適しています。従来の248nm光源を使用するため、比較的古い技術ではありますが、それでも多くの用途において依然として利用されています。KrFフォトレジストの特徴としては、優れた感度、良好なエッチング耐性、そして比較的低コストである点が挙げられます。 一方、ArFフォトレジストは、193nmの波長を持ち、より高度な微細加工が必要とされるプロセスに対して使用されます。ArF光源によって、より小さな回路パターンの形成が可能となるため、先進的な半導体製造においてはArFプロセスが主流となっています。ArFフォトレジストは、高感度、高解像度、および良好なプロセスウィンドウを提供するため、高い性能が求められます。また、複雑なパターン形成が可能で、次世代のリソグラフィ技術においても重要な役割を果たしています。 フォトレジストの種類には、大きく分けてポジ型とネガ型の二つがあります。ポジ型フォトレジストは、光照射によって化学的に感度が変化し、露光された部分が溶解して除去されます。一方、ネガ型は露光された部分が硬化し、未露光部分が除去されます。たいていのKrFおよびArFフォトレジストはポジ型ですが、特定の用途に応じてネガ型も開発されています。 深紫外フォトレジストは、半導体デバイスの製造だけでなく、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems）や光通信デバイスなど、さまざまな関連技術にも応用されています。例えば、MEMSデバイスにおいては、小型の機械部品を形成するための精密なパターン形成が必要です。また、光通信デバイスでは、高速なデータ伝送を可能とするための微細な光路構造が必要です。このような分野においても、深紫外フォトレジストはその優れた性能により重要な技術として位置づけられています。 関連する技術としては、EUV（Extreme Ultraviolet、極紫外線）リソグラフィがあります。EUVリソグラフィは、波長が13.5nmと短いため、さらに微細なパターンが形成可能であり、将来的な半導体製造の最前線として注目されています。EUV技術はまだ発展途上ではありますが、KrFおよびArFフォトレジストと並行して研究が進められています。 また、深紫外フォトレジストの開発においては、新しい材料の探索やプロセス技術の改善が求められています。例えば、高感度で高解像度なフォトレジストの開発は、次世代半導体デバイスにおいて重要な要素です。最近では、ナノインプリントリソグラフィや自己組織化などの新しい技術にも力が入れられています。 さらに、環境への配慮も重要な要素となっています。新しいフォトレジスト材料の開発では、持続可能性や環境への影響を考慮した選択が求められています。これにより、製造プロセス全体の効率化やコスト削減に寄与することが期待されています。 深紫外KrFおよびArFフォトレジストは、半導体製造プロセスにおいて欠かせない要素であり、その進化はデバイスのサイズや性能を大きく左右します。今後も、ますます小型化されるデバイスに対応するため、さらなる技術革新が求められていくことでしょう。このような背景の中で深紫外フォトレジストの研究は今後も進められ、より高度な半導体製造技術の実現に向けた重要な役割を果たすことが期待されています。 |
