1 当調査分析レポートの紹介
・CMPスラリー市場の定義
・市場セグメント
タイプ別：アルミナスラリー、コロイダルシリカスラリー、セリアスラリー
用途別：シリコン（Si）ウエハ、SiCウエハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他、
・世界のCMPスラリー市場概観
・本レポートの特徴とメリット
・調査方法と情報源
調査方法
調査プロセス
基準年
レポートの前提条件と注意点
2 CMPスラリーの世界市場規模
・CMPスラリーの世界市場規模：2023年VS2030年
・CMPスラリーのグローバル売上高、展望、予測：2019年～2030年
・CMPスラリーのグローバル売上高：2019年～2030年
3 企業の概況
・グローバル市場におけるCMPスラリー上位企業
・グローバル市場におけるCMPスラリーの売上高上位企業ランキング
・グローバル市場におけるCMPスラリーの企業別売上高ランキング
・世界の企業別CMPスラリーの売上高
・世界のCMPスラリーのメーカー別価格（2019年～2024年）
・グローバル市場におけるCMPスラリーの売上高上位3社および上位5社、2023年
・グローバル主要メーカーのCMPスラリーの製品タイプ
・グローバル市場におけるCMPスラリーのティア1、ティア2、ティア3メーカー
グローバルCMPスラリーのティア1企業リスト
グローバルCMPスラリーのティア2、ティア3企業リスト
4 製品タイプ別分析
・概要
タイプ別 – CMPスラリーの世界市場規模、2023年・2030年
アルミナスラリー、コロイダルシリカスラリー、セリアスラリー
・タイプ別 – CMPスラリーのグローバル売上高と予測
タイプ別 – CMPスラリーのグローバル売上高、2019年～2024年
タイプ別 – CMPスラリーのグローバル売上高、2025年～2030年
タイプ別-CMPスラリーの売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別 – CMPスラリーの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
5 用途別分析
・概要
用途別 – CMPスラリーの世界市場規模、2023年・2030年
シリコン（Si）ウエハ、SiCウエハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他、
・用途別 – CMPスラリーのグローバル売上高と予測
用途別 – CMPスラリーのグローバル売上高、2019年～2024年
用途別 – CMPスラリーのグローバル売上高、2025年～2030年
用途別 – CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別 – CMPスラリーの価格（メーカー販売価格）、2019年～2030年
6 地域別分析
・地域別 – CMPスラリーの市場規模、2023年・2030年
・地域別 – CMPスラリーの売上高と予測
地域別 – CMPスラリーの売上高、2019年～2024年
地域別 – CMPスラリーの売上高、2025年～2030年
地域別 – CMPスラリーの売上高シェア、2019年～2030年
・北米
北米のCMPスラリー売上高・販売量、2019年～2030年
米国のCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
カナダのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
メキシコのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
・ヨーロッパ
ヨーロッパのCMPスラリー売上高・販売量、2019年〜2030年
ドイツのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
フランスのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
イギリスのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
イタリアのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
ロシアのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
・アジア
アジアのCMPスラリー売上高・販売量、2019年～2030年
中国のCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
日本のCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
韓国のCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
東南アジアのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
インドのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
・南米
南米のCMPスラリー売上高・販売量、2019年～2030年
ブラジルのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
アルゼンチンのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
・中東・アフリカ
中東・アフリカのCMPスラリー売上高・販売量、2019年～2030年
トルコのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
イスラエルのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
サウジアラビアのCMPスラリー市場規模、2019年～2030年
UAECMPスラリーの市場規模、2019年～2030年
7 主要メーカーのプロフィール
※掲載企業：Entegris (CMC Materials)、、Showa Denko、、FUJIMI INCORPORATED、、DuPont、、Merck (Versum Materials)、、Fujifilm、、AGC、、KC Tech、、JSR Corporation、、Anjimirco Shanghai、、Soulbrain、、Saint-Gobain、、Ace Nanochem、、Dongjin Semichem、、Ferro (UWiZ Technology)、、WEC Group、、SKC、、Shanghai Xinanna Electronic Technology、、Hubei Dinglong、
・Company A
Company Aの会社概要
Company Aの事業概要
Company AのCMPスラリーの主要製品
Company AのCMPスラリーのグローバル販売量・売上
Company Aの主要ニュース＆最新動向
・Company B
Company Bの会社概要
Company Bの事業概要
Company BのCMPスラリーの主要製品
Company BのCMPスラリーのグローバル販売量・売上
Company Bの主要ニュース＆最新動向
…
…
8 世界のCMPスラリー生産能力分析
・世界のCMPスラリー生産能力
・グローバルにおける主要メーカーのCMPスラリー生産能力
・グローバルにおけるCMPスラリーの地域別生産量
9 主な市場動向、機会、促進要因、抑制要因
・市場の機会と動向
・市場の促進要因
・市場の抑制要因
10 CMPスラリーのサプライチェーン分析
・CMPスラリー産業のバリューチェーン
・CMPスラリーの上流市場
・CMPスラリーの下流市場と顧客リスト
・マーケティングチャネル分析
マーケティングチャネル
世界のCMPスラリーの販売業者と販売代理店
11 まとめ
12 付録
・注記
・クライアントの例
・免責事項
・CMPスラリーのタイプ別セグメント
・CMPスラリーの用途別セグメント
・CMPスラリーの世界市場概要、2023年
・主な注意点
・CMPスラリーの世界市場規模：2023年VS2030年
・CMPスラリーのグローバル売上高：2019年～2030年
・CMPスラリーのグローバル販売量：2019年～2030年
・CMPスラリーの売上高上位3社および5社の市場シェア、2023年
・タイプ別-CMPスラリーのグローバル売上高
・タイプ別-CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・タイプ別-CMPスラリーのグローバル価格
・用途別-CMPスラリーのグローバル売上高
・用途別-CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・用途別-CMPスラリーのグローバル価格
・地域別-CMPスラリーのグローバル売上高、2023年・2030年
・地域別-CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年 VS 2023年 VS 2030年
・地域別-CMPスラリーのグローバル売上高シェア、2019年～2030年
・国別-北米のCMPスラリー市場シェア、2019年～2030年
・米国のCMPスラリーの売上高
・カナダのCMPスラリーの売上高
・メキシコのCMPスラリーの売上高
・国別-ヨーロッパのCMPスラリー市場シェア、2019年～2030年
・ドイツのCMPスラリーの売上高
・フランスのCMPスラリーの売上高
・英国のCMPスラリーの売上高
・イタリアのCMPスラリーの売上高
・ロシアのCMPスラリーの売上高
・地域別-アジアのCMPスラリー市場シェア、2019年～2030年
・中国のCMPスラリーの売上高
・日本のCMPスラリーの売上高
・韓国のCMPスラリーの売上高
・東南アジアのCMPスラリーの売上高
・インドのCMPスラリーの売上高
・国別-南米のCMPスラリー市場シェア、2019年～2030年
・ブラジルのCMPスラリーの売上高
・アルゼンチンのCMPスラリーの売上高
・国別-中東・アフリカCMPスラリー市場シェア、2019年～2030年
・トルコのCMPスラリーの売上高
・イスラエルのCMPスラリーの売上高
・サウジアラビアのCMPスラリーの売上高
・UAEのCMPスラリーの売上高
・世界のCMPスラリーの生産能力
・地域別CMPスラリーの生産割合（2023年対2030年）
・CMPスラリー産業のバリューチェーン
・マーケティングチャネル
| ※参考情報 CMPスラリーは、化学的機械研磨（CMP）プロセスにおいて使用される重要な材料です。CMPは半導体製造やその他の精密加工分野で広く利用される技術であり、新しい製品の表面を平滑にしたり、平面性を保ったりするために使用されます。このプロセスにおけるスラリーは、研磨剤、化学物質、そして水を混合したペーストまたは液体であり、特定の特性を持つことで高い研磨効率が実現されます。 まず、CMPスラリーの定義から考えてみましょう。CMPスラリーは、細かな粒子を含む液体であり、通常は水性で、加工対象の材料に対して化学的作用と機械的作用を同時に行うものです。このスラリーの主成分には、研磨剤としての粒子、化学反応を促進するための化学薬品、そしてスラリーの流動性を高めるための添加物が含まれます。 CMPスラリーの特徴としては、まずその粒子サイズが挙げられます。一般的に、CMPスラリーにはナノメートル単位の微細な研磨粒子が使用され、これにより求められる精度での加工が可能になります。また、スラリーのpH、比重、粘度も重要な特性です。こうした特性は、研磨対象の材料の種類や特性に応じて調整される必要があります。たとえば、シリコンウェハの研磨には酸化シリコンやアルミナの微細な粒子が使われることが多く、これらの物質は研磨の性質を大きく左右します。 CMPスラリーは、主に半導体、光学、磁気記録、さらには硬質コーティングの分野で使用されます。半導体製造の過程では、ウェハの表面を平滑にし、特定の厚さで層を制御するためにCMPプロセスが不可欠です。また、光学レンズの加工においても、スラリーによって高い平滑度が求められます。近年では、電気自動車や太陽光発電などの新しい技術にもCMPスラリーが適用されるケースが増えています。 CMPスラリーにはいくつかの種類があります。例えば、酸化物研磨用スラリー、金属研磨用スラリー、そして絶縁体研磨用スラリーなどがあります。酸化物スラリーは、シリコン酸化物やアルミナを用いたもので、特にシリコンウェハの平滑化に効果的です。金属研磨用スラリーは、銅やアルミニウムなどの金属材料の加工に多く用いられます。このスラリーには、化学的反応を助ける酸やアルカリの成分が含まれることがあり、効率的な研磨が行えるように設計されています。 用途に関しては、CMPスラリーの進化は特に半導体業界において目覚ましいものがあります。半導体デバイスの微細化が進む中、CMP技術もそれに合わせて進化しています。これにより、より高い集積度のデバイスの製造が可能になり、回路間の接続やトランジスタの特性を最適化することができます。今後も半導体市場が成長する中で、高性能のCMPスラリーの需要は引き続き高まると考えられます。 CMPスラリーの関連技術としては、加工技術や材料技術があります。たとえば、新しい研磨材の開発やスラリーの製造プロセスの改善が挙げられます。最近では、ナノテクノロジーを活用した新しいタイプのスラリーが研究されており、これによりより高精度で高効率の研磨が可能になると期待されています。また、自動化技術の進展により、CMPプロセス全体の効率化も進んでいます。 さらに、スラリーの環境面に対する配慮も重要な課題として挙げられます。従来の方法では、有害化学物質を多く含むスラリーが使用されることがありましたが、環境に優しい材料を用いた新しいスラリーの開発が求められています。このような研究は、持続可能な開発の観点からも重要で、業界全体が環境負荷を低減する努力を続けています。 CMPスラリーは、その特性や用途から見ても、製造業においてなくてはならない要素であり、特に半導体製造においてはその役割がますます重要視されています。技術の進歩とともに、その性能や適応範囲は拡大し、新たな市場ニーズに応じた商品開発が期待されるでしょう。今後の技術革新により、CMPスラリーの進化がもたらす影響は計り知れず、今後の動向が非常に注目されています。 |
