カテゴリー： 世界, 部品/材料, Grand View Research

極端紫外線リソグラフィの世界市場（2024年~2030年）：市場規模、シェア、動向分析

【英語タイトル】Extreme Ultraviolet Lithography Market Size, Share & Trends Analysis Report By Equipment (Light Source, Optics, Mask), By End Use (Integrated Device Manufacturer, Foundries), By Region, And Segment Forecasts, 2024 - 2030

Grand View Researchが出版した調査資料（GRV24OCT015）・商品コード：GRV24OCT015
・発行会社（調査会社）：Grand View Research
・発行日：2024年8月
   最新版(2025年又は2026年)はお問い合わせください。
・ページ数：152
・レポート言語：英語
・レポート形式：PDF
・納品方法：Eメール（受注後4営業日）
・調査対象地域：グローバル
・産業分野：先進内装材
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❖ レポートの概要 ❖

市場規模と動向
極端紫外線リソグラフィの世界市場規模は、2023年に94.2億米ドルと推定され、2024年から2030年にかけて年平均成長率17.3％で成長すると予測されています。極端紫外線リソグラフィ市場は、半導体デバイスの小型化・高効率化に対する需要の高まりに牽引され、力強い成長を遂げています。電子機器の小型化が進むと同時に、消費電力と効率も向上しているため、メーカーは次世代の半導体を製造するための重要な技術として極端紫外線（EUV）リソグラフィに注目しています。この傾向は、主に、家電、自動車、高性能コンピューティングなどの分野における継続的な進歩に後押しされています。

極端紫外線リソグラフィは、シリコンウェーハ上に非常に複雑なパターンを形成する半導体製造プロセスで使用される最先端技術です。この技術は、極端紫外線領域の極めて短い波長の光を用いて、これまでにない解像度と精度を実現するもので、半導体デバイスの小型化、高速化、高効率化を可能にします。極端紫外線リソグラフィは、従来のリソグラフィ技術を大きく進化させるものであり、スマートフォンやコンピュータから高度なAIや5Gネットワークに至るまで、様々なハイテクアプリケーションに必要とされる次世代のマイクロチップへの扉を開くものです。

極端紫外線リソグラフィ市場の成長に寄与するもう一つの要因は、半導体業界自体の技術革新と技術進歩のペースが速いことです。チップメーカーが可能性の限界に挑戦し続ける中、極端紫外線リソグラフィは、その比類ない精度と拡張性により、これらの進歩を実現するための重要なツールとして際立っています。

世界の極端紫外線リソグラフィ市場のレポート区分

本レポートでは、2018年から2030年にかけての世界、地域、国レベルでの収益成長を予測し、各サブセグメントにおける業界動向に関する分析を提供しています。この調査において、Grand View Research社は、世界の極端紫外線リソグラフィ市場レポートを装置、最終用途、地域に基づいてセグメント化しています：

– 装置の展望（売上高、百万米ドル、2018年～2030年）
– 光源
– 光学系
– マスク
– その他
– 最終用途の展望（売上高、百万米ドル、2018年～2030年）
– 集積デバイスメーカー（IDM）
– ファウンドリ
– 地域別展望（売上高、百万米ドル、2018年～2030年）
– 北米
o 米国
o カナダ
o メキシコ
– 欧州
o イギリス
ドイツ
フランス
o イタリア
o スペイン
– アジア太平洋
o 日本
o 中国
o インド
o 台湾
o 韓国
– ラテンアメリカ
o ブラジル
o アルゼンチン
– 中東・アフリカ
o 南アフリカ
o サウジアラビア
o アラブ首長国連邦

グローバル市場調査レポート販売サイトのwww.marketreport.jpです。

❖ レポートの目次 ❖

目次

第1章. 方法論と範囲
1.1. 市場セグメンテーションとスコープ
1.2. 市場の定義
1.3. 調査方法
1.4. 情報収集
1.4.1. 購入データベース
1.4.2. GVRの内部データベース
1.4.3. 二次情報源
1.4.4. 第三者の視点
1.4.5. 情報分析
1.5. 情報分析
1.5.1. データ分析モデル
1.5.2. 市場形成とデータの可視化
1.5.3. データの検証・公開
1.6. 調査範囲と前提条件
1.6.1. データソース一覧
第2章. エグゼクティブ・サマリー
2.1. 市場の展望
2.2. セグメントの展望
2.3. 競合他社の洞察
第3章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の変数、動向、スコープ
3.1. 市場の系統展望
3.2. 市場集中度と普及率の展望
3.3. 産業バリューチェーン分析
3.4. 技術概要
3.5. 規制の枠組み
3.6. 市場ダイナミクス
3.6.1. 市場促進要因分析
3.6.2. 市場阻害要因分析
3.6.3. 市場機会分析
3.6.4. 市場の課題分析
3.7. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場分析ツール
3.7.1. ポーター分析
3.7.1.1. サプライヤーの交渉力
3.7.1.2. 買い手の交渉力
3.7.1.3. 代替の脅威
3.7.1.4. 新規参入による脅威
3.7.1.5. 競争上のライバル
3.7.2. PESTEL分析
3.7.2.1. 政治情勢
3.7.2.2. 経済・社会情勢
3.7.2.3. 技術的ランドスケープ
3.7.2.4. 環境景観
3.7.2.5. 法的景観
3.8. 経済メガトレンド分析
第4章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場： 装置の推定と動向分析
4.1. セグメントダッシュボード
4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場： 装置動向分析、USD Million、2023年および2030年
4.3. 光源
4.3.1. 市場推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
4.4. 光学部品
4.4.1. 市場の推定と予測、2018～2030年（百万米ドル）
4.5. マスク
4.5.1. 市場の推定と予測、2018〜2030年（USD Million）
4.6. その他
4.6.1. 市場の推定と予測、2018年～2030年（百万米ドル）
第5章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場： 最終用途の推定と動向分析
5.1. セグメントダッシュボード
5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場： 最終用途の動向分析、百万米ドル、2023年および2030年
5.3. 集積デバイスメーカー（IDM）
5.3.1. 市場の推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
5.4. ファウンドリ
5.4.1. 市場の推定と予測、2018～2030年（百万米ドル）
第6章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場： 地域別推定と動向分析
6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場シェア：地域別、2023年・2030年（百万米ドル
6.2. 北米
6.2.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（百万米ドル）
6.2.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.2.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.2.4. 米国
6.2.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 （百万米ドル）
6.2.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.2.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.2.5. カナダ
6.2.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.2.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.2.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.2.6. メキシコ
6.2.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.2.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.2.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3. 欧州
6.3.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.3.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.3.4. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.5. 英国
6.3.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.6. ドイツ
6.3.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.3.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.7. フランス
6.3.7.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.7.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.7.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.8. イタリア
6.3.8.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.8.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.8.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.9. スペイン
6.3.9.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.9.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.9.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4. アジア太平洋
6.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.4. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.5. 中国
6.4.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.4.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.6. インド
6.4.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.4.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.7. 日本
6.4.7.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.7.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.4.7.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.8. 韓国
6.4.8.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.8.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (USD Million)
6.4.8.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.9. 台湾
6.4.9.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.9.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (USD Million)
6.4.9.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.5. 中南米
6.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.5.4. ブラジル
6.5.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.5.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.5.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.5.5. アルゼンチン
6.5.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.5.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.5.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6. 中東・アフリカ
6.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6.4. 南アフリカ
6.6.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.6.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6.5. サウジアラビア
6.6.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.6.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6.6. アラブ首長国連邦
6.6.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.6.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
第7章. 競争環境
7.1. 主要市場参入企業の最新動向と影響分析
7.2. 企業の分類
7.3. 企業の市場ポジショニング
7.4. 各社の市場シェア分析（2023年
7.5. 企業ヒートマップ分析、2023年
7.6. 戦略マッピング
7.7. 企業プロファイル
ASML Holding NV
NTT Advanced Technology Corporation
Canon Inc
Nikon Corporation
Intel Corporation
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
Samsung Electronics Co. Ltd
Toppan Photomasks Inc
ZEISS Group
Ushio, Inc.


※参考情報

極端紫外線リソグラフィ（EUVリソグラフィ）は、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たしている先進的なリソグラフィ技術です。特に、微細なパターンをシリコンウェハー上に転写するために使用されます。この技術は、従来の光リソグラフィに比べて非常に短い波長の光を利用するため、より高い解像度が得られます。具体的には、EUVは波長が約13.5ナノメートルという非常に短い紫外線を利用しています。この短波長により、より微細なトランジスタや回路パターンを形成することが可能になります。

EUVリソグラフィの主な種類としては、フォトリソグラフィ技術を基にした露光法があります。これには、マスクを使って光をシリコンウェハーに照射し、フォトレジストと呼ばれる感光材料に保持されたパターンを形成する方式が一般的です。さらに、EUVリソグラフィは、複数のレイヤーを連続して露光することで多層構造を作成することができ、これにより微細なデバイスを製造する際の柔軟性が向上します。これにより、半導体業界における進化が促進され、高性能でエネルギー効率の良いチップを開発することが可能になります。

EUVリソグラフィは、特に先端プロセス技術、つまり7nm、5nm、さらには3nmプロセスにおいて不可欠な技術とされています。これにより、半導体デバイスの集積度が向上し、プロセッサの性能が著しく向上します。また、EUVを利用することで、例えば、スマートフォン、パソコン、AIチップ、さらには自動運転車の制御ユニットなど、様々な用途に適した高性能なプロセッサを製造することができるのです。

EUVリソグラフィに関連する技術としては、いくつかの重要な要素があります。まず、EUV光源技術が挙げられます。EUV光を生成するためには、高エネルギーのレーザーを用いる技術が必要であり、これによって安定したEUV光を生成することが求められます。また、EUV露光装置の設計や製造も、非常に高度な技術と精密な製造プロセスが必要です。これにより、露光中に光の散乱を最小限に抑え、望ましい解像度を確保します。

さらに、EUVリソグラフィでは新しい材料やプロセス技術も重要です。フォトレジスト材料の開発には、多様な特性を持つ材料が求められ、微細なパターンの形成に適した特性を持つことが必要です。また、EUV露光による高い解像度を活かすために、多層膜材料や新しいエッチング技術も併用されます。これらの高度な技術は、半導体産業が直面する課題に対処するために欠かせない要素です。

EUVリソグラフィは、その技術的な特性から、半導体業界での競争力を左右する重要な要素とされています。競争が激しい半導体市場では、半導体メーカーは先進的なプロセス技術を取り入れることで、製品の性能や効率を向上させ、コストを抑える努力をしています。EUV技術を採用することにより、より微細で高性能なデバイスを短期間で製造することが可能となります。

また、EUVリソグラフィの普及は、特にAIやIoT（モノのインターネット）の発展に寄与しています。これにより、次世代の情報処理や通信インフラの構築においても、その重要性が増しています。

このように、極端紫外線リソグラフィは、半導体製造における高解像度パターン形成の強力な手段であり、その関連技術の発展も含め、今後のさらなる進化が期待されています。EUVリソグラフィの技術革新が、さらなる新しいデバイスやアプリケーションの創出につながることが望まれています。


❖ 世界の極端紫外線リソグラフィ市場に関するよくある質問(FAQ) ❖

・極端紫外線リソグラフィの世界市場規模は？
→Grand View Research社は2023年の極端紫外線リソグラフィの世界市場規模を94.2億米ドルと推定しています。

・極端紫外線リソグラフィの世界市場予測は？
→Grand View Research社は2030年の極端紫外線リソグラフィの世界市場規模をXX億米ドルと予測しています。

・極端紫外線リソグラフィ市場の成長率は？
→Grand View Research社は極端紫外線リソグラフィの世界市場が2024年～2030年に年平均17.3%成長すると予測しています。

・世界の極端紫外線リソグラフィ市場における主要企業は？
→Grand View Research社は「ASML Holding NV、NTT Advanced Technology Corporation、Canon Inc、Nikon Corporation、Intel Corporation、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited、Samsung Electronics Co. Ltd、Toppan Photomasks Inc、ZEISS Group、Ushio, Inc.など ...」をグローバル極端紫外線リソグラフィ市場の主要企業として認識しています。

※上記FAQの市場規模、市場予測、成長率、主要企業に関する情報は本レポートの概要を作成した時点での情報であり、納品レポートの情報と少し異なる場合があります。

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