1 エグゼクティブサマリー
1.1 市場規模 2024-2025
1.2 市場成長 2025(F)-2034(F)
1.3 主要需要ドライバー
1.4 主要プレイヤーと競争構造
1.5 業界ベストプラクティス
1.6 最近の動向と発展
1.7 業界見通し
2 市場概要とステークホルダーインサイト
2.1 市場動向
2.2 主要垂直市場
2.3 主要地域
2.4 供給者パワー
2.5 購買者パワー
2.6 主要市場機会とリスク
2.7 ステークホルダーによる主要イニシアチブ
3 経済概要
3.1 GDP見通し
3.2 一人当たりGDP成長率
3.3 インフレ動向
3.4 民主主義指数
3.5 公的債務比率
3.6 国際収支（BoP）ポジション
3.7 人口見通し
3.8 都市化動向
4 国別リスクプロファイル
4.1 国別リスク
4.2 ビジネス環境
5 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場分析
5.1 主要産業ハイライト
5.2 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場の歴史的推移（2018-2024）
5.3 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測（2025-2034）
5.4 タイプ別グローバルフォトレジスト市場
5.4.1 ArF液浸
5.4.1.1 過去動向（2018-2024）
5.4.1.2 予測動向（2025-2034）
5.4.2 KrF
5.4.2.1 過去動向（2018-2024）
5.4.2.2 予測動向（2025-2034）
5.4.3 ArFドライ
5.4.3.1 過去動向（2018-2024）
5.4.3.2 予測動向（2025-2034）
5.4.4 g線およびi線
5.4.4.1 過去動向（2018-2024年）
5.4.4.2 予測動向（2025-2034年）
5.4.5 その他
5.5 タイプ別グローバルフォトレジスト補助剤市場
5.5.1 反射防止コーティング
5.5.1.1 過去動向（2018-2024年）
5.5.1.2 予測動向（2025-2034年）
5.5.2 除去剤
5.5.2.1 過去動向（2018-2024年）
5.5.2.2 予測動向（2025-2034年）
5.5.3 現像液
5.5.3.1 過去動向（2018-2024年）
5.5.3.2 予測動向（2025-2034年）
5.5.4 その他
5.6 用途別グローバルフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場
5.6.1 半導体・IC
5.6.1.1 過去動向（2018-2024年）
5.6.1.2 予測動向（2025-2034年）
5.6.2 液晶ディスプレイ（LCD）
5.6.2.1 過去動向（2018-2024年）
5.6.2.2 予測動向（2025-2034年）
5.6.3 プリント基板
5.6.3.1 過去動向（2018-2024年）
5.6.3.2 予測動向（2025-2034年）
5.6.4 その他
5.7 地域別グローバルフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場
5.7.1 北米
5.7.1.1 過去動向（2018-2024年）
5.7.1.2 予測動向（2025-2034年）
5.7.2 欧州
5.7.2.1 過去動向（2018-2024年）
5.7.2.2 予測動向（2025-2034年）
5.7.3 アジア太平洋地域
5.7.3.1 過去動向（2018-2024年）
5.7.3.2 予測動向（2025-2034年）
5.7.4 LAMEA地域
5.7.4.1 過去動向（2018-2024年）
5.7.4.2 予測動向（2025-2034年）
6 北米フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場分析
6.1 アメリカ合衆国
6.1.1 過去動向（2018-2024年）
6.1.2 予測動向（2025-2034年）
6.2 カナダ
6.2.1 過去動向（2018-2024年）
6.2.2 予測動向（2025-2034年）
7 欧州フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場分析
7.1 イギリス
7.1.1 過去動向（2018-2024年）
7.1.2 予測動向（2025-2034年）
7.2 ドイツ
7.2.1 過去動向（2018-2024年）
7.2.2 予測動向（2025-2034年）
7.3 フランス
7.3.1 過去動向（2018-2024年）
7.3.2 予測動向（2025-2034）
7.4 イタリア
7.4.1 過去動向（2018-2024）
7.4.2 予測動向（2025-2034）
7.5 その他
8 アジア太平洋地域のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場分析
8.1 中国
8.1.1 過去動向（2018-2024年）
8.1.2 予測動向（2025-2034年）
8.2 日本
8.2.1 過去動向（2018-2024年）
8.2.2 予測動向（2025-2034年）
8.3 インド
8.3.1 過去動向（2018-2024年）
8.3.2 予測動向（2025-2034年）
8.4 ASEAN
8.4.1 過去動向（2018-2024年）
8.4.2 予測動向（2025-2034年）
8.5 韓国
8.5.1 過去動向（2018-2024）
8.5.2 予測動向（2025-2034）
8.6 その他
9 市場ダイナミクス
9.1 SWOT分析
9.1.1 強み
9.1.2 弱み
9.1.3 機会
9.1.4 脅威
9.2 ポーターの5つの力分析
9.2.1 供給者の交渉力
9.2.2 購入者の交渉力
9.2.3 新規参入の脅威
9.2.4 競合の激しさ
9.2.5 代替品の脅威
9.3 需要の主要指標
9.4 価格の主要指標
10 バリューチェーン分析
11 製造プロセス
12 競争環境
12.1 供給業者の選定
12.2 主要グローバル企業
12.3 主要地域企業
12.4 主要企業の戦略
12.5 企業プロファイル
12.5.1 東京応化工業株式会社
12.5.1.1 会社概要
12.5.1.2 製品ポートフォリオ
12.5.1.3 市場規模と実績
12.5.1.4 認証取得状況
12.5.2 JSR株式会社
12.5.2.1 会社概要
12.5.2.2 製品ポートフォリオ
12.5.2.3 顧客層と実績
12.5.2.4 認証取得状況
12.5.3 信越化学工業株式会社
12.5.3.1 会社概要
12.5.3.2 製品ポートフォリオ
12.5.3.3 顧客層の広がりと実績
12.5.3.4 認証
12.5.4 住友化学株式会社
12.5.4.1 会社概要
12.5.4.2 製品ポートフォリオ
12.5.4.3 顧客層と実績
12.5.4.4 認証
12.5.5 ALLRESIST GmbH
12.5.5.1 会社概要
12.5.5.2 製品ポートフォリオ
12.5.5.3 顧客層と実績
12.5.5.4 認証
12.5.6 その他
1.1 Market Size 2024-2025
1.2 Market Growth 2025(F)-2034(F)
1.3 Key Demand Drivers
1.4 Key Players and Competitive Structure
1.5 Industry Best Practices
1.6 Recent Trends and Developments
1.7 Industry Outlook
2 Market Overview and Stakeholder Insights
2.1 Market Trends
2.2 Key Verticals
2.3 Key Regions
2.4 Supplier Power
2.5 Buyer Power
2.6 Key Market Opportunities and Risks
2.7 Key Initiatives by Stakeholders
3 Economic Summary
3.1 GDP Outlook
3.2 GDP Per Capita Growth
3.3 Inflation Trends
3.4 Democracy Index
3.5 Gross Public Debt Ratios
3.6 Balance of Payment (BoP) Position
3.7 Population Outlook
3.8 Urbanisation Trends
4 Country Risk Profiles
4.1 Country Risk
4.2 Business Climate
5 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market Analysis
5.1 Key Industry Highlights
5.2 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Historical Market (2018-2024)
5.3 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market Forecast (2025-2034)
5.4 Global Photoresist Market by Type
5.4.1 ArF Immersion
5.4.1.1 Historical Trend (2018-2024)
5.4.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.4.2 KrF
5.4.2.1 Historical Trend (2018-2024)
5.4.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.4.3 ArF Dry
5.4.3.1 Historical Trend (2018-2024)
5.4.3.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.4.4 g- and i-line
5.4.4.1 Historical Trend (2018-2024)
5.4.4.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.4.5 Others
5.5 Global Photoresist Ancillaries Market by Type
5.5.1 Anti-Reflective Coatings
5.5.1.1 Historical Trend (2018-2024)
5.5.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.5.2 Remover
5.5.2.1 Historical Trend (2018-2024)
5.5.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.5.3 Developer
5.5.3.1 Historical Trend (2018-2024)
5.5.3.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.5.4 Others
5.6 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market by Application
5.6.1 Semiconductors & ICS
5.6.1.1 Historical Trend (2018-2024)
5.6.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.6.2 LCDs
5.6.2.1 Historical Trend (2018-2024)
5.6.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.6.3 Printed Circuit Boards
5.6.3.1 Historical Trend (2018-2024)
5.6.3.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.6.4 Others
5.7 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market by Region
5.7.1 North America
5.7.1.1 Historical Trend (2018-2024)
5.7.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.7.2 Europe
5.7.2.1 Historical Trend (2018-2024)
5.7.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.7.3 Asia Pacific
5.7.3.1 Historical Trend (2018-2024)
5.7.3.2 Forecast Trend (2025-2034)
5.7.4 LAMEA
5.7.4.1 Historical Trend (2018-2024)
5.7.4.2 Forecast Trend (2025-2034)
6 North America Photoresist and Photoresist Ancillaries Market Analysis
6.1 United States of America
6.1.1 Historical Trend (2018-2024)
6.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
6.2 Canada
6.2.1 Historical Trend (2018-2024)
6.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
7 Europe Photoresist and Photoresist Ancillaries Market Analysis
7.1 United Kingdom
7.1.1 Historical Trend (2018-2024)
7.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
7.2 Germany
7.2.1 Historical Trend (2018-2024)
7.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
7.3 France
7.3.1 Historical Trend (2018-2024)
7.3.2 Forecast Trend (2025-2034)
7.4 Italy
7.4.1 Historical Trend (2018-2024)
7.4.2 Forecast Trend (2025-2034)
7.5 Others
8 Asia Pacific Photoresist and Photoresist Ancillaries Market Analysis
8.1 China
8.1.1 Historical Trend (2018-2024)
8.1.2 Forecast Trend (2025-2034)
8.2 Japan
8.2.1 Historical Trend (2018-2024)
8.2.2 Forecast Trend (2025-2034)
8.3 India
8.3.1 Historical Trend (2018-2024)
8.3.2 Forecast Trend (2025-2034)
8.4 ASEAN
8.4.1 Historical Trend (2018-2024)
8.4.2 Forecast Trend (2025-2034)
8.5 South Korea
8.5.1 Historical Trend (2018-2024)
8.5.2 Forecast Trend (2025-2034)
8.6 Others
9 Market Dynamics
9.1 SWOT Analysis
9.1.1 Strengths
9.1.2 Weaknesses
9.1.3 Opportunities
9.1.4 Threats
9.2 Porter’s Five Forces Analysis
9.2.1 Supplier’s Power
9.2.2 Buyer’s Power
9.2.3 Threat of New Entrants
9.2.4 Degree of Rivalry
9.2.5 Threat of Substitutes
9.3 Key Indicators for Demand
9.4 Key Indicators for Price
10 Value Chain Analysis
11 Manufacturing Process
12 Competitive Landscape
12.1 Supplier Selection
12.2 Key Global Players
12.3 Key Regional Players
12.4 Key Player Strategies
12.5 Company Profiles
12.5.1 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
12.5.1.1 Company Overview
12.5.1.2 Product Portfolio
12.5.1.3 Demographic Reach and Achievements
12.5.1.4 Certifications
12.5.2 JSR Corporation
12.5.2.1 Company Overview
12.5.2.2 Product Portfolio
12.5.2.3 Demographic Reach and Achievements
12.5.2.4 Certifications
12.5.3 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
12.5.3.1 Company Overview
12.5.3.2 Product Portfolio
12.5.3.3 Demographic Reach and Achievements
12.5.3.4 Certifications
12.5.4 Sumitomo Chemical Co., Ltd.
12.5.4.1 Company Overview
12.5.4.2 Product Portfolio
12.5.4.3 Demographic Reach and Achievements
12.5.4.4 Certifications
12.5.5 ALLRESIST GmbH
12.5.5.1 Company Overview
12.5.5.2 Product Portfolio
12.5.5.3 Demographic Reach and Achievements
12.5.5.4 Certifications
12.5.6 Others
| ※参考情報 フォトレジストは、光を使ってパターンを生成する際に用いられる感光性材料です。主に半導体製造や微細加工において重要な役割を果たしています。フォトレジストは、光に反応する性質を持ち、露光後に化学的特性が変化することで特定のパターンを形成します。この特性により、基板上に微細構造を作り出すことが可能になります。 フォトレジストは、大きく分けてポジ型とネガ型の2種類に分類されます。ポジ型フォトレジストは、露光された部分が溶解し、未露光部分が残る特性を持っています。一方、ネガ型フォトレジストは、露光された部分が硬化し、未露光部分が溶解する特性です。これらの特性を利用して、微細な回路パターンや構造物を形成することができます。 用途としては、半導体デバイスの製造が最も一般的です。集積回路やメモリチップの製造プロセスでは、フォトレジストがなくてはならない材料です。また、液晶ディスプレイや太陽光発電パネル、MEMS（微小電気機械システム）など、他の電子機器や光学デバイスの製造にも広く使用されています。さらに、近年では高速データ通信のための光デバイスや、医療分野での微細加工技術向けにも応用が進んでいます。 フォトレジストの製造には、化学的技術が大きく関与しています。一般的な材料としては、ポリマー、感光剤、溶剤、添加剤が使用されます。これらの成分は、求められる性能や用途に応じて最適化されており、感度、解像度、耐熱性、エッチング耐性など、様々な特性を持つフォトレジストが開発されています。 関連技術としては、フォトリソグラフィが挙げられます。フォトリソグラフィは、フォトレジストを用いて基板上にパターンを転写する技術で、露光装置を使用して光を照射し、露光後の現像処理を行うことでパターンが形成されます。この過程では、ナノスケールでの高精度な露光が求められるため、光源の波長や露光装置の精度が重要です。 近年では、EUV（極紫外線）リソグラフィ技術が注目されています。この技術は、極めて短い波長の光を使用して高い解像度のパターンを形成することができ、次世代の半導体プロセスにおいて大きな可能性を秘めています。この技術には、新たなフォトレジストの開発が必要となるため、研究が進められています。 フォトレジストの使用においては、環境への配慮も重要です。従来のフォトレジストには、有害な化学物質が使用されることがあり、リサイクルや廃棄物処理が問題視されています。そのため、環境に優しい材料の開発が進められ、無害化や生分解性のあるフォトレジストの研究も活発に行われています。 フォトレジストとその関連製品は、電子機器の小型化や高性能化を支える基盤技術となっています。これからも、新しい材料や技術の開発が進むことで、より高機能で環境に配慮したフォトレジストが求められることでしょう。したがって、フォトレジストは今後も半導体産業や電子機器の進化において重要な役割を果たし続けると考えられます。 |
