1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査の目的
2.2 ステークホルダー
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法
3 エグゼクティブ・サマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要産業動向
5 フォトリソグラフィ装置の世界市場
5.1 市場概要
5.2 市場パフォーマンス
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 プロセス別市場
6.1 紫外線（UV）
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 深紫外線（DUV）
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 極端紫外線（EUV）
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
7 波長別市場内訳
7.1 70 nm-1 nm
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 270nm-170nm
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 370nm-270nm
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 デバイス波長別市場
8.1 レーザー生成プラズマ
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 エキシマレーザー
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 水銀ランプ
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
9 アプリケーション別市場
9.1 フロントエンド
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 バックエンド
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
10 エンドユース別市場
10.1 IDM
10.1.1 市場動向
10.1.2 市場予測
10.2 ファウンドリ
10.2.1 市場動向
10.2.2 市場予測
11 地域別市場内訳
11.1 北米
11.1.1 米国
11.1.1.1 市場動向
11.1.1.2 市場予測
11.1.2 カナダ
11.1.2.1 市場動向
11.1.2.2 市場予測
11.2 アジア太平洋
11.2.1 中国
11.2.1.1 市場動向
11.2.1.2 市場予測
11.2.2 日本
11.2.2.1 市場動向
11.2.2.2 市場予測
11.2.3 インド
11.2.3.1 市場動向
11.2.3.2 市場予測
11.2.4 韓国
11.2.4.1 市場動向
11.2.4.2 市場予測
11.2.5 オーストラリア
11.2.5.1 市場動向
11.2.5.2 市場予測
11.2.6 インドネシア
11.2.6.1 市場動向
11.2.6.2 市場予測
11.2.7 その他
11.2.7.1 市場動向
11.2.7.2 市場予測
11.3 欧州
11.3.1 ドイツ
11.3.1.1 市場動向
11.3.1.2 市場予測
11.3.2 フランス
11.3.2.1 市場動向
11.3.2.2 市場予測
11.3.3 イギリス
11.3.3.1 市場動向
11.3.3.2 市場予測
11.3.4 イタリア
11.3.4.1 市場動向
11.3.4.2 市場予測
11.3.5 スペイン
11.3.5.1 市場動向
11.3.5.2 市場予測
11.3.6 ロシア
11.3.6.1 市場動向
11.3.6.2 市場予測
11.3.7 その他
11.3.7.1 市場動向
11.3.7.2 市場予測
11.4 中南米
11.4.1 ブラジル
11.4.1.1 市場動向
11.4.1.2 市場予測
11.4.2 メキシコ
11.4.2.1 市場動向
11.4.2.2 市場予測
11.4.3 その他
11.4.3.1 市場動向
11.4.3.2 市場予測
11.5 中東・アフリカ
11.5.1 市場動向
11.5.2 国別市場内訳
11.5.3 市場予測
12 SWOT分析
12.1 概要
12.2 長所
12.3 弱点
12.4 機会
12.5 脅威
13 バリューチェーン分析
14 ポーターズファイブフォース分析
14.1 概要
14.2 買い手の交渉力
14.3 供給者の交渉力
14.4 競争の程度
14.5 新規参入の脅威
14.6 代替品の脅威
15 価格分析
16 競争環境
16.1 市場構造
16.2 主要プレーヤー
16.3 主要プレーヤーのプロフィール
16.3.1 ASML Holding N.V.
16.3.1.1 会社概要
16.3.1.2 製品ポートフォリオ
16.3.2 キヤノン
16.3.2.1 会社概要
16.3.2.2 製品ポートフォリオ
16.3.2.3 財務
16.3.2.4 SWOT分析
16.3.3 オイリタAG
16.3.3.1 会社概要
16.3.3.2 製品ポートフォリオ
16.3.4 EVグループ
16.3.4.1 会社概要
16.3.4.2 製品ポートフォリオ
16.3.5 Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.
16.3.5.1 会社概要
16.3.5.2 製品ポートフォリオ
16.3.6 マイクロファブサービスGmbH
16.3.6.1 会社概要
16.3.6.2 製品ポートフォリオ
16.3.7 ニュートロニクス・クインテル
16.3.7.1 会社概要
16.3.7.2 製品ポートフォリオ
16.3.8 株式会社ニコン
16.3.8.1 会社概要
16.3.8.2 製品ポートフォリオ
16.3.8.3 財務
16.3.8.4 SWOT分析
16.3.9 NuFlare Technology Inc.（東芝電子デバイス＆ストレージ株式会社）
16.3.9.1 会社概要
16.3.9.2 製品ポートフォリオ
16.3.10 オーソゴナル社（Orthogonal Inc.
16.3.10.1 会社概要
16.3.10.2 製品ポートフォリオ
16.3.11 オシリスインターナショナルGmbH
16.3.11.1 会社概要
16.3.11.2 製品ポートフォリオ
16.3.12 S-Cubed Inc.
16.3.12.1 会社概要
16.3.12.2 製品ポートフォリオ
| ※参考情報 フォトリソグラフィ装置は、半導体製造プロセスにおいて極めて重要な役割を果たす機器です。主にシリコンウェーハ上に微細なパターンを転写するために使用され、半導体デバイスや集積回路の製造プロセスに不可欠です。フォトリソグラフィの基本的な概念は、光を使用して感光性材料、すなわちレジストを露光し、そのパターンをウェーハ上に形成することにあります。このプロセスでは、微細な画像を形成するために、特定の波長の光が使用され、これにより非常に高精度なパターン形成が可能になります。 フォトリソグラフィ装置には、さまざまな種類があります。一般的には、ステッパー、スキャナー、マスクアライナーといった装置が使用されます。ステッパーは、特定のサイズのマスクを使用して、一度に1つのパターンをウェーハ上に転写します。一方、スキャナーは、マスクを動かしながら光を照射することで、広範囲にわたるパターン形成を実現します。これにより、生産性の向上と縮小化されたパターン形成が可能になります。マスクアライナーは、主に小規模な製造や研究開発に使われる装置で、コストが比較的低く、簡易な操作が可能です。 フォトリソグラフィの用途は非常に広範で、主に各種半導体デバイスの製造に利用されています。具体的には、集積回路（IC）、メモリデバイス、パワーデバイス、RFデバイスなど、さまざまな半導体デバイスの製造に必須です。また、フォトリソグラフィ技術は、ディスプレイ技術においても応用されています。例えば、有機ELディスプレイや液晶ディスプレイの製造においても、この技術が使われています。 フォトリソグラフィ技術を支える関連技術も多数存在します。まず、レジスト技術は重要な要素です。感光性材料であるレジストは、露光後の現像工程を経てウェーハ上にパターンを形成します。高感度低濃度レジストや極紫外線（EUV）用の特殊なレジストが開発されるなど、常に進化が求められています。また、光学系の技術も重要です。より高解像度なパターンを実現するためには、短波長の光を用いたり、反射型や透過型の光学系を工夫したりする必要があります。 さらに、ナノインプリントリソグラフィという新しい技術も注目されています。この技術は、物理的な型を用いて直接パターンを転写するもので、従来のフォトリソグラフィに比べてコストが低く、より細かいパターンを作成することが可能です。フォトリソグラフィとナノインプリントリソグラフィは、それぞれの強みを活かしながら、今後の半導体製造において共存する方向が見込まれています。 フォトリソグラフィ装置の性能向上も常に求められています。これは、より高密度のICが要求される昨今の市場環境において、重要な課題です。例えば、ダイメトリクスやスループットの向上、エネルギー効率の改善などが挙げられます。さらに、製造プロセス全体の自動化やデジタル化も進んでおり、効率的な生産体制の構築が求められています。 このように、フォトリソグラフィ装置は半導体製造において不可欠な技術であり、その発展は今後のテクノロジーの進化に大きな影響を及ぼします。次世代のデバイス開発に向けて、さらなる革新が期待されているのです。フォトリソグラフィの進化は、単に技術の高度化にとどまらず、その影響範囲は幅広く、私たちの生活や産業に深く関わっている重要な要素であると言えるでしょう。これからのフォトリソグラフィ技術の向上を通じて、新たな可能性が広がることを期待しています。 |
❖ 世界のフォトリソグラフィ装置市場に関するよくある質問(FAQ) ❖
・フォトリソグラフィ装置の世界市場規模は？
→IMARC社は2023年のフォトリソグラフィ装置の世界市場規模を148億米ドルと推定しています。
・フォトリソグラフィ装置の世界市場予測は？
→IMARC社は2032年のフォトリソグラフィ装置の世界市場規模を293億米ドルと予測しています。
・フォトリソグラフィ装置市場の成長率は？
→IMARC社はフォトリソグラフィ装置の世界市場が2024年〜2032年に年平均7.8%成長すると予測しています。
・世界のフォトリソグラフィ装置市場における主要企業は？
→IMARC社は「ASML Holding N.V.、Canon Inc.、Eulitha AG、EV Group、Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.、microfab Service GmbH、Neutronix Quintel、Nikon Corporation、NuFlare Technology Inc. (Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation)、Orthogonal Inc.、Osiris International GmbH and S-Cubed Inc.など ...」をグローバルフォトリソグラフィ装置市場の主要企業として認識しています。
※上記FAQの市場規模、市場予測、成長率、主要企業に関する情報は本レポートの概要を作成した時点での情報であり、納品レポートの情報と少し異なる場合があります。
