1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査目的
2.2 関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界のフォトリソグラフィ装置市場
5.1 市場概要
5.2 市場実績
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 プロセス別市場分析
6.1 紫外線（UV）
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 深紫外線（DUV）
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 極端紫外線（EUV）
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
7 波長別市場分析
7.1 70 nm–1 nm
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 270 nm–170 nm
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 370 nm–270 nm
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 デバイス波長別市場分析
8.1 レーザー生成プラズマ
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 エキシマレーザー
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 水銀ランプ
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
9 用途別市場分析
9.1 前工程
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 バックエンド
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
10 最終用途別市場分析
10.1 IDM
10.1.1 市場動向
10.1.2 市場予測
10.2 ファウンドリ
10.2.1 市場動向
10.2.2 市場予測
11 地域別市場分析
11.1 北米
11.1.1 アメリカ合衆国
11.1.1.1 市場動向
11.1.1.2 市場予測
11.1.2 カナダ
11.1.2.1 市場動向
11.1.2.2 市場予測
11.2 アジア太平洋地域
11.2.1 中国
11.2.1.1 市場動向
11.2.1.2 市場予測
11.2.2 日本
11.2.2.1 市場動向
11.2.2.2 市場予測
11.2.3 インド
11.2.3.1 市場動向
11.2.3.2 市場予測
11.2.4 韓国
11.2.4.1 市場動向
11.2.4.2 市場予測
11.2.5 オーストラリア
11.2.5.1 市場動向
11.2.5.2 市場予測
11.2.6 インドネシア
11.2.6.1 市場動向
11.2.6.2 市場予測
11.2.7 その他
11.2.7.1 市場動向
11.2.7.2 市場予測
11.3 ヨーロッパ
11.3.1 ドイツ
11.3.1.1 市場動向
11.3.1.2 市場予測
11.3.2 フランス
11.3.2.1 市場動向
11.3.2.2 市場予測
11.3.3 イギリス
11.3.3.1 市場動向
11.3.3.2 市場予測
11.3.4 イタリア
11.3.4.1 市場動向
11.3.4.2 市場予測
11.3.5 スペイン
11.3.5.1 市場動向
11.3.5.2 市場予測
11.3.6 ロシア
11.3.6.1 市場動向
11.3.6.2 市場予測
11.3.7 その他
11.3.7.1 市場動向
11.3.7.2 市場予測
11.4 ラテンアメリカ
11.4.1 ブラジル
11.4.1.1 市場動向
11.4.1.2 市場予測
11.4.2 メキシコ
11.4.2.1 市場動向
11.4.2.2 市場予測
11.4.3 その他
11.4.3.1 市場動向
11.4.3.2 市場予測
11.5 中東・アフリカ
11.5.1 市場動向
11.5.2 国別市場分析
11.5.3 市場予測
12 SWOT分析
12.1 概要
12.2 強み
12.3 弱み
12.4 機会
12.5 脅威
13 バリューチェーン分析
14 ポーターの5つの力分析
14.1 概要
14.2 購買者の交渉力
14.3 供給者の交渉力
14.4 競争の激しさ
14.5 新規参入の脅威
14.6 代替品の脅威
15 価格分析
16 競争環境
16.1 市場構造
16.2 主要プレイヤー
16.3 主要プレイヤーのプロファイル
16.3.1 ASMLホールディングN.V.
16.3.1.1 会社概要
16.3.1.2 製品ポートフォリオ
16.3.2 キヤノン株式会社
16.3.2.1 会社概要
16.3.2.2 製品ポートフォリオ
16.3.2.3 財務状況
16.3.2.4 SWOT分析
16.3.3 Eulitha AG
16.3.3.1 会社概要
16.3.3.2 製品ポートフォリオ
16.3.4 EV Group
16.3.4.1 会社概要
16.3.4.2 製品ポートフォリオ
16.3.5 Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.
16.3.5.1 会社概要
16.3.5.2 製品ポートフォリオ
16.3.6 マイクロファブ・サービス社
16.3.6.1 会社概要
16.3.6.2 製品ポートフォリオ
16.3.7 ニュートロニクス・クインテル
16.3.7.1 会社概要
16.3.7.2 製品ポートフォリオ
16.3.8 ニコン株式会社
16.3.8.1 会社概要
16.3.8.2 製品ポートフォリオ
16.3.8.3 財務状況
16.3.8.4 SWOT分析
16.3.9 ヌフレア・テクノロジー株式会社（東芝エレクトロニクスデバイス＆ストレージ株式会社）
16.3.9.1 会社概要
16.3.9.2 製品ポートフォリオ
16.3.10 Orthogonal Inc.
16.3.10.1 会社概要
16.3.10.2 製品ポートフォリオ
16.3.11 Osiris International GmbH
16.3.11.1 会社概要
16.3.11.2 製品ポートフォリオ
16.3.12 エス・キューブド株式会社
16.3.12.1 会社概要
16.3.12.2 製品ポートフォリオ
図2：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（10億米ドル）、2017-2022年
図3：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（10億米ドル）、2023-2028年
図4：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：プロセス別内訳（％）、2022年
図5：世界：フォトリソグラフィ装置市場：波長別内訳（％）、2022年
図6：世界：フォトリソグラフィ装置市場：デバイス波長別内訳（％）、2022年
図7：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：用途別内訳（%）、2022年
図8：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：最終用途別内訳（%）、2022年
図9：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：地域別内訳（%）、2022年
図10：グローバル：フォトリソグラフィ装置（紫外線（UV））市場：販売額（百万米ドル）、2017年及び2022年
図11：世界：フォトリソグラフィ装置（紫外線（UV））市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図12：世界：フォトリソグラフィ装置（深紫外線（DUV））市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図13：世界：フォトリソグラフィ装置（深紫外線（DUV））市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図14：世界：フォトリソグラフィ装置（極端紫外線（EUV））市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図15：世界：フォトリソグラフィ装置（極端紫外線（EUV））市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図16：世界：フォトリソグラフィ装置（70 nm–1 nm）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図17：世界：フォトリソグラフィ装置（70 nm–1 nm）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図18：世界：フォトリソグラフィ装置（270nm～170nm）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図19：世界：フォトリソグラフィ装置（270 nm–170 nm）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図20：世界：フォトリソグラフィ装置（370 nm–270 nm）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図21：世界：フォトリソグラフィ装置（370 nm–270 nm）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図22：世界：フォトリソグラフィ装置（レーザー生成プラズマ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図23：グローバル：フォトリソグラフィ装置（レーザー生成プラズマ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図24：グローバル：フォトリソグラフィ装置（エキシマレーザー）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図25：グローバル：フォトリソグラフィ装置（エキシマレーザー）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図26：グローバル：フォトリソグラフィ装置（水銀ランプ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図27：グローバル：フォトリソグラフィ装置（水銀ランプ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図28：グローバル：フォトリソグラフィ装置（フロントエンド）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図29：グローバル：フォトリソグラフィ装置（フロントエンド）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図30：世界：フォトリソグラフィ装置（バックエンド）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図31：世界：フォトリソグラフィ装置（バックエンド）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図32：世界：フォトリソグラフィ装置（IDM向け）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図33：世界：フォトリソグラフィ装置（IDM向け）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図34：グローバル：フォトリソグラフィ装置（ファウンドリ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図35：グローバル：フォトリソグラフィ装置（ファウンドリ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図36：北米：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図37：北米：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図38：米国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図39：米国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図40：カナダ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図41：カナダ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図42：アジア太平洋地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図43：アジア太平洋地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図44：中国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図45：中国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図46：日本：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図47：日本：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図48：インド：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図49：インド：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図50：韓国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図51：韓国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図52：オーストラリア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図53：オーストラリア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図54：インドネシア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図55：インドネシア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図56：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図57：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図58：欧州：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図59：欧州：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図60：ドイツ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図61：ドイツ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図62：フランス：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図63：フランス：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図64：英国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図65：英国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図66：イタリア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図67：イタリア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図68：スペイン：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図69：スペイン：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図70：ロシア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図71：ロシア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図72：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図73：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図74：ラテンアメリカ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図75：ラテンアメリカ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図76：ブラジル：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図77：ブラジル：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図78：メキシコ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図79：メキシコ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図80：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図81：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図82：中東・アフリカ地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図83：中東・アフリカ地域：フォトリソグラフィ装置市場：国別内訳（％）、2022年
図84：中東・アフリカ地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図85：グローバル：フォトリソグラフィ装置産業：SWOT分析
図86：グローバル：フォトリソグラフィ装置産業：バリューチェーン分析
図87：グローバル：フォトリソグラフィ装置産業：ポーターの5つの力分析
1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Photolithography Equipment Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Market Forecast
6 Market Breakup by Process
6.1 Ultraviolet (UV)
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 Deep Ultraviolet (DUV)
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 Extreme Ultraviolet (EUV)
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
7 Market Breakup by Wavelength
7.1 70 nm–1 nm
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 270 nm–170 nm
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 370 nm–270 nm
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
8 Market Breakup by Device Wavelength
8.1 Laser Produced Plasmas
8.1.1 Market Trends
8.1.2 Market Forecast
8.2 Excimer Lasers
8.2.1 Market Trends
8.2.2 Market Forecast
8.3 Mercury Lamps
8.3.1 Market Trends
8.3.2 Market Forecast
9 Market Breakup by Application
9.1 Front-End
9.1.1 Market Trends
9.1.2 Market Forecast
9.2 Back-End
9.2.1 Market Trends
9.2.2 Market Forecast
10 Market Breakup by End Use
10.1 IDMs
10.1.1 Market Trends
10.1.2 Market Forecast
10.2 Foundries
10.2.1 Market Trends
10.2.2 Market Forecast
11 Market Breakup by Region
11.1 North America
11.1.1 United States
11.1.1.1 Market Trends
11.1.1.2 Market Forecast
11.1.2 Canada
11.1.2.1 Market Trends
11.1.2.2 Market Forecast
11.2 Asia-Pacific
11.2.1 China
11.2.1.1 Market Trends
11.2.1.2 Market Forecast
11.2.2 Japan
11.2.2.1 Market Trends
11.2.2.2 Market Forecast
11.2.3 India
11.2.3.1 Market Trends
11.2.3.2 Market Forecast
11.2.4 South Korea
11.2.4.1 Market Trends
11.2.4.2 Market Forecast
11.2.5 Australia
11.2.5.1 Market Trends
11.2.5.2 Market Forecast
11.2.6 Indonesia
11.2.6.1 Market Trends
11.2.6.2 Market Forecast
11.2.7 Others
11.2.7.1 Market Trends
11.2.7.2 Market Forecast
11.3 Europe
11.3.1 Germany
11.3.1.1 Market Trends
11.3.1.2 Market Forecast
11.3.2 France
11.3.2.1 Market Trends
11.3.2.2 Market Forecast
11.3.3 United Kingdom
11.3.3.1 Market Trends
11.3.3.2 Market Forecast
11.3.4 Italy
11.3.4.1 Market Trends
11.3.4.2 Market Forecast
11.3.5 Spain
11.3.5.1 Market Trends
11.3.5.2 Market Forecast
11.3.6 Russia
11.3.6.1 Market Trends
11.3.6.2 Market Forecast
11.3.7 Others
11.3.7.1 Market Trends
11.3.7.2 Market Forecast
11.4 Latin America
11.4.1 Brazil
11.4.1.1 Market Trends
11.4.1.2 Market Forecast
11.4.2 Mexico
11.4.2.1 Market Trends
11.4.2.2 Market Forecast
11.4.3 Others
11.4.3.1 Market Trends
11.4.3.2 Market Forecast
11.5 Middle East and Africa
11.5.1 Market Trends
11.5.2 Market Breakup by Country
11.5.3 Market Forecast
12 SWOT Analysis
12.1 Overview
12.2 Strengths
12.3 Weaknesses
12.4 Opportunities
12.5 Threats
13 Value Chain Analysis
14 Porters Five Forces Analysis
14.1 Overview
14.2 Bargaining Power of Buyers
14.3 Bargaining Power of Suppliers
14.4 Degree of Competition
14.5 Threat of New Entrants
14.6 Threat of Substitutes
15 Price Analysis
16 Competitive Landscape
16.1 Market Structure
16.2 Key Players
16.3 Profiles of Key Players
16.3.1 ASML Holding N.V.
16.3.1.1 Company Overview
16.3.1.2 Product Portfolio
16.3.2 Canon Inc.
16.3.2.1 Company Overview
16.3.2.2 Product Portfolio
16.3.2.3 Financials
16.3.2.4 SWOT Analysis
16.3.3 Eulitha AG
16.3.3.1 Company Overview
16.3.3.2 Product Portfolio
16.3.4 EV Group
16.3.4.1 Company Overview
16.3.4.2 Product Portfolio
16.3.5 Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.
16.3.5.1 Company Overview
16.3.5.2 Product Portfolio
16.3.6 microfab Service GmbH
16.3.6.1 Company Overview
16.3.6.2 Product Portfolio
16.3.7 Neutronix Quintel
16.3.7.1 Company Overview
16.3.7.2 Product Portfolio
16.3.8 Nikon Corporation
16.3.8.1 Company Overview
16.3.8.2 Product Portfolio
16.3.8.3 Financials
16.3.8.4 SWOT Analysis
16.3.9 NuFlare Technology Inc. (Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation)
16.3.9.1 Company Overview
16.3.9.2 Product Portfolio
16.3.10 Orthogonal Inc.
16.3.10.1 Company Overview
16.3.10.2 Product Portfolio
16.3.11 Osiris International GmbH
16.3.11.1 Company Overview
16.3.11.2 Product Portfolio
16.3.12 S-Cubed Inc.
16.3.12.1 Company Overview
16.3.12.2 Product Portfolio
| ※参考情報 フォトリソグラフィ装置は、半導体製造プロセスにおいて欠かせない機器で、微細パターンを基板上に形成するために使用されます。この技術は、光を利用して感光剤（フォトレジスト）を露光し、その後の現像プロセスを通じて求めるパターンを形成します。フォトリソグラフィは、特に集積回路の製造において重要な役割を果たしており、微細化が進む現代のエレクトロニクス産業には不可欠な技術です。 フォトリソグラフィの基本的なプロセスは、まずシリコンウェハや他の材料の表面にフォトレジストを塗布することから始まります。次に、マスクと呼ばれるパターンを持つ透明なフィルムを用いて、光源からの光をフォトレジストに照射します。この光がフォトレジストに当たることで、化学反応が起こり、その結果としてレジストの性質が変化します。露光が終わった後、現像液を使って未露光部または露光部を除去することで、基板上に意図したパターンが残ります。 フォトリソグラフィ装置にはさまざまな種類があります。一般的には、ステッパーやスキャナーと呼ばれる機器が主に使用されます。ステッパーは、小型のウェハやパターンを何度も繰り返し露光する方式で、高精細なパターン形成に適しています。一方、スキャナーは、ウェハ全体を一度に露光することができ、より高速で生産性が高いという特徴があります。また、最近では、極紫外線（EUV）露光技術が登場し、さらなる微細化が可能になっています。 フォトリソグラフィの用途は多岐にわたります。主に半導体素子の製造に使用されているほか、LED、太陽電池、MEMS（微小電気機械システム）などの製造にも応用されています。特に半導体業界では、プロセスの微細化が競争力を左右するため、フォトリソグラフィ技術の進化は欠かせません。現在、ナノメートルレベルの微細なパターン形成が可能なため、さらなる高性能化や省エネルギー化が実現されています。 関連技術としては、フォトリソグラフィの精度を向上させるためのさまざまな方法があります。例えば、アライメント技術やオプティマイゼーション技術、さらにはマルチパターンニングと呼ばれる手法が存在します。アライメント技術は、複数の層を重ねる際の精密な位置合わせを行うもので、これによりパターンの重なりを正確に制御します。また、マルチパターンニングでは、1回の露光では形成できない微細なパターンを複数回の露光で形成することで、より高い解像度を実現します。 フォトリソグラフィは、材料科学や化学工学、光学の知識を総合的に必要とする分野であり、新しい素材や技術の開発が進められています。フォトレジストの改良や光源の進化、さらには新たな露光技術の開発が、今後のフォトリソグラフィ技術の向上に寄与します。 現在、フォトリソグラフィ装置は高価で複雑な機器ですが、半導体産業の高さや需要に応じて、その重要性は増す一方です。今後も、フォトリソグラフィ技術は進化を続け、より小さく、高速かつ高効率なデバイスの実現に貢献していくことでしょう。新しいアプリケーションの発展により、フォトリソグラフィがプレートの境界を超えて多様な産業に広がっていくことが期待されます。 |
