露光装置の世界市場2015-2019

◆英語タイトル:Global Lithography Systems Market 2015-2019
◆商品コード:IRTNTR7790
◆発行会社(調査会社):Technavio
◆発行日:2015年12月16日
◆ページ数:64
◆レポート言語:英語
◆レポート形式:pdf
◆納品方法:Eメール
◆調査対象地域:世界
◆産業分野:産業装置
◆販売価格オプション(消費税別)
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当調査レポートでは、露光装置の世界市場について調査・分析し、エグゼクティブサマリー、市場概観、市場概観、業界の構造分析、露光装置の世界市場規模及び予測、技術別分析、需要先別分析、地域別分析/市場規模、主要国別分析、市場の成長要因、市場の課題、市場動向、競争状況、主要企業(ベンダー)分析などの情報をお届けいたします。
【レポートの概要】

Following the growth of the electronic device industry, the demand for semiconductor ICs for different applications, such as communication, consumer electronic devices, memory devices, and sensor devices increases, thereby, driving the need for the lithography systems. Moreover, the growing demand for compact electronic devices and for large panel displays has increased the demand for ArF and KrF lithography systems. Technavio predicts the global lithography systems market to display a healthy growth, reaching revenues worth of USD 8.07 billion by 2019.

In terms of geographical revenue contribution, the APAC region dominated the lithography system market, accounting for a share of over 71% in 2014, followed by the US, and Europe. Factors such as the solid presence of semiconductor IC manufacturers in APAC is one of the major reasons for the high revenue contribution from this region.

As of 2014, the ArF (ArF Dry and ArF Immersion) segment was the largest revenue generator of the lithography systems market and accounted for a revenue share of over 77%. The main reason behind the market dominance of ArF excimer lithography systems is the miniaturization of semiconductor ICs.

This report offers an analysis of each of the following segments and discusses its impact on the overall market growth -
• ArF Dry
• ArF Immersion
• KrF
• EUV
• i-line

In terms of end-user segment, the foundry segment was the largest revenue contributor to the lithography systems market and accounted for a revenue share of close to 62% as of 2014. The main factor contributing to the market dominance of foundry market is the increasing demand for semiconductor ICs.

This report offers an analysis of each of the following segments and discusses its impact on the overall market growth -
• Foundry
• Memory
• IDM

The lithography systems market is densely marked with the presence of prominent vendors captivating the majority share in the market. Moreover, the existence of many prominent semiconductor foundries in Taiwan, South Korea, and Japan have made APAC an extremely competitive geography.
Top vendors in the market are -
• ASML
• Canon
• Nikon

Other prominent vendors in the market include EOL Ltd., NuFlare Technology Inc., SUSS Microtec AG, Ultratech Inc., and Vistec Semiconductor Systems.

【レポートの目次】

PART 01: Executive summary
• Highlights

PART 02: Scope of the report
• Market overview
• Top-vendor offerings

PART 03: Market research methodology
• Research methodology
• Economic indicators
• PEST analysis

PART 04: Introduction
• Key market highlights

PART 05: Technology landscape

PART 06: Market landscape
• Market overview
• Market size and forecast
• Five forces analysis

PART 07: Market segmentation by technology
• Market overview
• Market size and forecast

PART 08: Market segmentation by end-user
• Market overview
• Market size and forecast

PART 09: Geographical segmentation
• Market overview
• Market size and forecast
• Lithography systems market in APAC
• Lithography systems market in US
• Lithography systems market in Europe

PART 10: Market drivers
• Impact of drivers

PART 11: Market challenges

PART 12: Impact of drivers and challenges

PART 13: Market trends

PART 14: Vendor landscape
• Competitive scenario
• Key vendors
• Other prominent vendors

PART 15: Key vendor analysis
• ASML
• Canon
• Nikon

PART 16: Key recommendations for vendors/investors

PART 17: Appendix
• List of abbreviations

PART 18: Explore Technavio

[List of Exhibits]

Exhibit 01: Segmentation of global lithography market
Exhibit 02: Product offerings
Exhibit 03: Process flow of lithography
Exhibit 04: Requirements of lithography system
Exhibit 05: Types of lithography and their challenges
Exhibit 06: Types of lithography systems
Exhibit 07: Comparison between /i-line, KrF, ArF, and EUV lithography
Exhibit 08: Global lithography systems market 2014-2019 ($ billions)
Exhibit 09: Five forces analysis
Exhibit 10: Global lithography systems market by technology 2014
Exhibit 11: Global lithography systems market shipments by technology 2014
Exhibit 12: Global lithography systems market by technology 2014-2019
Exhibit 13: Global lithography systems market by technology 2014-2019 ($ millions)
Exhibit 14: Global lithography systems market by end-user 2014
Exhibit 15: Global lithography systems market by end-user 2014-2019
Exhibit 16: Global lithography systems market by end-user 2014-2019 ($ billions)
Exhibit 17: Global lithography systems market by geography 2014
Exhibit 18: Global lithography systems market by geography 2014-2019
Exhibit 19: Lithography systems market in APAC ($ billions)
Exhibit 20: Key leading countries in APAC
Exhibit 21: Lithography systems market in US ($ billions)
Exhibit 22: Lithography systems market in Europe ($ millions)
Exhibit 23: Impact of drivers
Exhibit 24: Growth rate of global sales of smartphones and tablet PCs 2014
Exhibit 25: CAGR of LED chip, sensor, DRAM, and NAND markets 2014-2019
Exhibit 26: Global MEMS market 2014-2019 ($ billions)
Exhibit 27: Global semiconductor market 1992-2014 ($ billions)
Exhibit 28: Impact of drivers and challenges
Exhibit 29: Growth of automobile shipments 2014-2019
Exhibit 30: Global lithography systems market by vendor 2014
Exhibit 31: ASML customers by end-user segment
Exhibit 32: ASML: Product segmentation
Exhibit 33: ASML: Geographical segmentation by revenue 2014
Exhibit 34: Canon: Business segmentation by revenue 2014
Exhibit 35: Canon: Business segmentation by revenue 2013 and 2014 ($ billions)
Exhibit 36: Canon: Geographical segmentation by revenue 2014
Exhibit 37: Nikon: Business segmentation by revenue 2015
Exhibit 38: Nikon: Business segmentation by revenue 2014 and 2015 ($ billions)
Exhibit 39: Nikon: Geographical segmentation by revenue 2015



【掲載企業】

ASML, Canon, Nikon, EOL Ltd., NuFlare Technology Inc., SUSS Microtec AG, Ultratech Inc., Vistec Semiconductor Systems.

【レポートのキーワード】

露光装置、半導体

【調査方法】

一次資料による調査(業界専門家、ベンダー、代理店、顧客等を対象にしたデプスインタビュー調査など)及び二次資料による調査(Technavio独自のプラットフォーム、産業書籍、企業報告書、ニュース記事、アナリストレポート、貿易協会、政府機関発行データなど)

【免責事項】
※当レポート上の情報/データは調査会社が信頼できると判断した情報源から入手したものに基づき作成しましたが、その正確性・完全性を保証するものではありません。当レポートに記載された情報/データ/見解/仮説などは作成時点又は発行時点における調査会社の判断であり、その後の状況変化に応じて変更される場合があります。当レポート上の情報/データに基づいたお客様の意思決定又は実行による結果について、調査会社/発行会社/販売会社H&Iグローバルリサーチ(株)はその責を負いかねますのでご了承ください。英文資料の紹介ページにおける日本語題名/概要/目次はH&Iグローバルリサーチ(株)が翻訳した内容であり、翻訳の正確性・完全性を保証するものではありません。

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